贵州师范学院学报
貴州師範學院學報
귀주사범학원학보
JOURNAL OF GUIZHOU EDUCATIONAL INSTITUTE
2014年
9期
75-79
,共5页
陈心园%黄建%邓伟%王维%周筑文
陳心園%黃建%鄧偉%王維%週築文
진심완%황건%산위%왕유%주축문
粒子模拟实验%硅烷%笑气%二氧化硅%等离子体加强化学沉积(PECVD)%SiO2薄膜
粒子模擬實驗%硅烷%笑氣%二氧化硅%等離子體加彊化學沉積(PECVD)%SiO2薄膜
입자모의실험%규완%소기%이양화규%등리자체가강화학침적(PECVD)%SiO2박막
通过等离子体粒子模拟实验(PIC),成功模拟了硅烷(SiH4)和笑气(N2O)的等离子体加强化学沉积(PECVD)制备SiO2薄膜的过程.模拟实验过程分析了电离后各种离子的动能、以及鞘层的空间和能量分布.分析这些物理参量,对比SiH4和N2O的等离子体加强化学沉积实验中的化学反应式,模拟实验结果从动能、能量空间分布的角度都能合理地解释等离子体加强化学沉积制备SiO2薄膜的实验过程,通过这些粒子模拟实验(PIC),从理论上合理地解释了使用SiH4和N2O形成SiO2薄膜的一些形成机制.
通過等離子體粒子模擬實驗(PIC),成功模擬瞭硅烷(SiH4)和笑氣(N2O)的等離子體加彊化學沉積(PECVD)製備SiO2薄膜的過程.模擬實驗過程分析瞭電離後各種離子的動能、以及鞘層的空間和能量分佈.分析這些物理參量,對比SiH4和N2O的等離子體加彊化學沉積實驗中的化學反應式,模擬實驗結果從動能、能量空間分佈的角度都能閤理地解釋等離子體加彊化學沉積製備SiO2薄膜的實驗過程,通過這些粒子模擬實驗(PIC),從理論上閤理地解釋瞭使用SiH4和N2O形成SiO2薄膜的一些形成機製.
통과등리자체입자모의실험(PIC),성공모의료규완(SiH4)화소기(N2O)적등리자체가강화학침적(PECVD)제비SiO2박막적과정.모의실험과정분석료전리후각충리자적동능、이급초층적공간화능량분포.분석저사물리삼량,대비SiH4화N2O적등리자체가강화학침적실험중적화학반응식,모의실험결과종동능、능량공간분포적각도도능합리지해석등리자체가강화학침적제비SiO2박막적실험과정,통과저사입자모의실험(PIC),종이론상합리지해석료사용SiH4화N2O형성SiO2박막적일사형성궤제.