电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2014年
15期
644-647
,共4页
邱敬东%贾素秋%关景鑫%丁净利
邱敬東%賈素鞦%關景鑫%丁淨利
구경동%가소추%관경흠%정정리
镁合金%化学镀镍%化学转化%前处理%耐蚀性
鎂閤金%化學鍍鎳%化學轉化%前處理%耐蝕性
미합금%화학도얼%화학전화%전처리%내식성
magnesium alloy%electroless nickel plating%chemical conversion%pretreatment%corrosion resistance
以磷酸盐-高锰酸钾体系化学转化膜作为化学镀Ni-P层和AZ91D镁合金基体之间的中间层,以取代传统的HF活化前处理.化学转化液组成和工艺条件为:KMnO4 31.6 g/L,Na3PO4·12H2O 0.5 g/L,CH3COONa.3H2O 4.1 g/L,CH3COOHl0.0 g/L,室温,5 min.化学镀镍液组成和工艺为:NiSO4·6H2O20 g/L,NaH2PO2·H2O 20 g/L,C6H5Na3O7·2H2O 10 g/L,NH4F10 g/L,pH 8.0,80～ 85℃,2h.分别采用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪等研究了Ni-P镀层的微观形貌、成分和结构,并采用电化学方法表征了Ni-P镀层的耐蚀性.结果表明,所得Ni-P合金镀层均匀、致密,厚度约为45 μm,可显著提高基体的耐腐蚀性能.
以燐痠鹽-高錳痠鉀體繫化學轉化膜作為化學鍍Ni-P層和AZ91D鎂閤金基體之間的中間層,以取代傳統的HF活化前處理.化學轉化液組成和工藝條件為:KMnO4 31.6 g/L,Na3PO4·12H2O 0.5 g/L,CH3COONa.3H2O 4.1 g/L,CH3COOHl0.0 g/L,室溫,5 min.化學鍍鎳液組成和工藝為:NiSO4·6H2O20 g/L,NaH2PO2·H2O 20 g/L,C6H5Na3O7·2H2O 10 g/L,NH4F10 g/L,pH 8.0,80～ 85℃,2h.分彆採用掃描電鏡、能譜儀、X射線衍射儀等研究瞭Ni-P鍍層的微觀形貌、成分和結構,併採用電化學方法錶徵瞭Ni-P鍍層的耐蝕性.結果錶明,所得Ni-P閤金鍍層均勻、緻密,厚度約為45 μm,可顯著提高基體的耐腐蝕性能.
이린산염-고맹산갑체계화학전화막작위화학도Ni-P층화AZ91D미합금기체지간적중간층,이취대전통적HF활화전처리.화학전화액조성화공예조건위:KMnO4 31.6 g/L,Na3PO4·12H2O 0.5 g/L,CH3COONa.3H2O 4.1 g/L,CH3COOHl0.0 g/L,실온,5 min.화학도얼액조성화공예위:NiSO4·6H2O20 g/L,NaH2PO2·H2O 20 g/L,C6H5Na3O7·2H2O 10 g/L,NH4F10 g/L,pH 8.0,80～ 85℃,2h.분별채용소묘전경、능보의、X사선연사의등연구료Ni-P도층적미관형모、성분화결구,병채용전화학방법표정료Ni-P도층적내식성.결과표명,소득Ni-P합금도층균균、치밀,후도약위45 μm,가현저제고기체적내부식성능.
