电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2014年
7期
16-19
,共4页
朱海%吴向阳%彭东辉%韩婕%徐静安
硃海%吳嚮暘%彭東輝%韓婕%徐靜安
주해%오향양%팽동휘%한첩%서정안
涂层导体%Ni-5％W合金基带%电化学抛光%均匀设计
塗層導體%Ni-5％W閤金基帶%電化學拋光%均勻設計
도층도체%Ni-5％W합금기대%전화학포광%균균설계
Coated Conductor%Ni-5％ W alloy substrate%Electro-polishing%Uniform design
为改善Ni-5％W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化.结果表明,在室温下,采用磷酸(85％)、硫酸(98％)和有机添加剂,以体积比为4:3:3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25 μm范围内可降低到5 nm以下.
為改善Ni-5％W閤金基帶錶麵質量,以燐痠-硫痠和添加劑為電解液,採用均勻實驗設計方法進行電解拋光,利用原子力顯微鏡對樣品錶麵形貌進行錶徵,併用DPS(Data Process System)軟件對拋光結果進行逐步迴歸優化.結果錶明,在室溫下,採用燐痠(85％)、硫痠(98％)和有機添加劑,以體積比為4:3:3的拋光液拋光效果較好,拋光後基帶錶麵均方根粗糙度在25μm×25 μm範圍內可降低到5 nm以下.
위개선Ni-5％W합금기대표면질량,이린산-류산화첨가제위전해액,채용균균실험설계방법진행전해포광,이용원자력현미경대양품표면형모진행표정,병용DPS(Data Process System)연건대포광결과진행축보회귀우화.결과표명,재실온하,채용린산(85％)、류산(98％)화유궤첨가제,이체적비위4:3:3적포광액포광효과교호,포광후기대표면균방근조조도재25μm×25 μm범위내가강저도5 nm이하.
