光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2014年
5期
1289-1295
,共7页
白林山%熊伟%储向峰%董永平%张王兵
白林山%熊偉%儲嚮峰%董永平%張王兵
백림산%웅위%저향봉%동영평%장왕병
蓝宝石晶片%化学机械抛光%表面粗糙度%SiO2/GeO2%复合磨料
藍寶石晶片%化學機械拋光%錶麵粗糙度%SiO2/GeO2%複閤磨料
람보석정편%화학궤계포광%표면조조도%SiO2/GeO2%복합마료
sapphire substrate%chemical mechanical polish%surface roughness%SiO2/GeO2%composite abrasive
采用均相沉淀法制备了SiO2/CeO2复合磨料,并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)等对样品的相组成和形貌进行了表征.将所制备的SiO2/CeO2复合磨料用于蓝宝石晶片的化学机械抛光,利用原子力显微镜检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度.结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒呈球形,粒径在40-50 nm;在相同条件下,经过复合磨料抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.32 nm,材料去除速率为16.4 nm/min,而SiO2抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.92 nm,材料去除速率为20.1 nm/min.实验显示,复合磨料的材料去除速率略低于单一SiO2磨料,但它获得了较好的表面质量,基本满足蓝宝石作发光二极管(LED)衬底的工艺要求.
採用均相沉澱法製備瞭SiO2/CeO2複閤磨料,併利用X射線衍射儀(XRD)、透射電子顯微鏡(TEM)、傅裏葉變換紅外光譜儀(FT-IR)等對樣品的相組成和形貌進行瞭錶徵.將所製備的SiO2/CeO2複閤磨料用于藍寶石晶片的化學機械拋光,利用原子力顯微鏡檢測拋光後的藍寶石晶片錶麵粗糙度.結果錶明:所製備的SiO2/CeO2複閤磨粒呈毬形,粒徑在40-50 nm;在相同條件下,經過複閤磨料拋光後的藍寶石晶片錶麵粗糙度為0.32 nm,材料去除速率為16.4 nm/min,而SiO2拋光後的藍寶石晶片錶麵粗糙度為0.92 nm,材料去除速率為20.1 nm/min.實驗顯示,複閤磨料的材料去除速率略低于單一SiO2磨料,但它穫得瞭較好的錶麵質量,基本滿足藍寶石作髮光二極管(LED)襯底的工藝要求.
채용균상침정법제비료SiO2/CeO2복합마료,병이용X사선연사의(XRD)、투사전자현미경(TEM)、부리협변환홍외광보의(FT-IR)등대양품적상조성화형모진행료표정.장소제비적SiO2/CeO2복합마료용우람보석정편적화학궤계포광,이용원자력현미경검측포광후적람보석정편표면조조도.결과표명:소제비적SiO2/CeO2복합마립정구형,립경재40-50 nm;재상동조건하,경과복합마료포광후적람보석정편표면조조도위0.32 nm,재료거제속솔위16.4 nm/min,이SiO2포광후적람보석정편표면조조도위0.92 nm,재료거제속솔위20.1 nm/min.실험현시,복합마료적재료거제속솔략저우단일SiO2마료,단타획득료교호적표면질량,기본만족람보석작발광이겁관(LED)츤저적공예요구.
