光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2013年
9期
2238-2243
,共6页
刘华松%王利栓%姜玉刚%季一勤
劉華鬆%王利栓%薑玉剛%季一勤
류화송%왕리전%강옥강%계일근
SiO2薄膜%正交实验%折射率%应力%离子束溅射
SiO2薄膜%正交實驗%摺射率%應力%離子束濺射
SiO2박막%정교실험%절사솔%응력%리자속천사
SiO2 thin film%orthogonal experiment%refractive index%stress%ion beam sputtering
基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性.使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力.实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03％、71.98％和69.53％;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62％、48.49％和37.88％.得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量.
基于正交試驗方法,繫統研究瞭用離子束濺射法製備SiO2薄膜其摺射率、應力與工藝參數(基闆溫度、離子束壓、離子束流和氧氣流量)之間的關聯性.使用分光光度計和橢圓偏振儀測量SiO2薄膜透過率光譜和反射橢偏特性,利用全光譜反縯計算法穫得薄膜的摺射率,通過測量基底鍍膜前後的錶麵變形量得到SiO2薄膜的應力.實驗結果錶明,工藝參數對薄膜摺射率影響權重從大到小依次為氧氣流量、基闆溫度、離子束流和離子束壓,前三者對摺射率影響的可信概率分彆為87.03％、71.98％和69.53％;對SiO2薄膜應力影響權重從大到小依次為基闆溫度、離子束壓、氧氣流量和離子束流,前三者對應力影響的可信概率分彆為95.62％、48.49％和37.88％.得到的結果錶明,製備低摺射率SiO2薄膜應選擇高氧氣流量、低基闆溫度和低離子束流;製備低應力SiO2薄膜應選擇低基闆溫度和高氧氣流量.
기우정교시험방법,계통연구료용리자속천사법제비SiO2박막기절사솔、응력여공예삼수(기판온도、리자속압、리자속류화양기류량)지간적관련성.사용분광광도계화타원편진의측량SiO2박막투과솔광보화반사타편특성,이용전광보반연계산법획득박막적절사솔,통과측량기저도막전후적표면변형량득도SiO2박막적응력.실험결과표명,공예삼수대박막절사솔영향권중종대도소의차위양기류량、기판온도、리자속류화리자속압,전삼자대절사솔영향적가신개솔분별위87.03％、71.98％화69.53％;대SiO2박막응력영향권중종대도소의차위기판온도、리자속압、양기류량화리자속류,전삼자대응력영향적가신개솔분별위95.62％、48.49％화37.88％.득도적결과표명,제비저절사솔SiO2박막응선택고양기류량、저기판온도화저리자속류;제비저응력SiO2박막응선택저기판온도화고양기류량.
