应用光学
應用光學
응용광학
JOURNAL OF APPLIED OPTICS
2013年
5期
764-767
,共4页
王松林%杨崇民%张建付%刘青龙%黎明%米高园%王慧娜
王鬆林%楊崇民%張建付%劉青龍%黎明%米高園%王慧娜
왕송림%양숭민%장건부%류청룡%려명%미고완%왕혜나
离子辅助电子束蒸发%薄膜光学常数%基底温度%氧化铝薄膜
離子輔助電子束蒸髮%薄膜光學常數%基底溫度%氧化鋁薄膜
리자보조전자속증발%박막광학상수%기저온도%양화려박막
ion-assisted electron beam evaporation%optical constants of thin films%substrate temperature%alumina thin films
为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相关理论,计算了基底温度在25℃～300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611 nm～348.447 nm,以及膜层折射率的变化.通过对实验结果的数值计算和曲线模拟,给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况.
為瞭攷察基底溫度對氧化鋁薄膜摺射率以及沉積厚度的影響情況,在不同基底溫度環境下,通過離子輔助電子束蒸髮方式,在玻璃基底上製備瞭同一Tooling因子條件下所鑑測到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度計測量光譜透過率,依據光學薄膜相關理論,計算瞭基底溫度在25℃～300℃範圍內穫得的膜層實際物理厚度為275.611 nm～348.447 nm,以及膜層摺射率的變化.通過對實驗結果的數值計算和麯線模擬,給齣瞭基底溫度對于薄膜的摺射率和實際厚度的影響情況.
위료고찰기저온도대양화려박막절사솔이급침적후도적영향정황,재불동기저온도배경하,통과리자보조전자속증발방식,재파리기저상제비료동일Tooling인자조건하소감측도상동후도적Al2O3박막,이용분광광도계측량광보투과솔,의거광학박막상관이론,계산료기저온도재25℃～300℃범위내획득적막층실제물리후도위275.611 nm～348.447 nm,이급막층절사솔적변화.통과대실험결과적수치계산화곡선모의,급출료기저온도대우박막적절사솔화실제후도적영향정황.
