材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2013年
18期
115-117
,共3页
张兴元%江四川%杨辉%张义豪%黄佳木
張興元%江四川%楊輝%張義豪%黃佳木
장흥원%강사천%양휘%장의호%황가목
磁控溅射%镁合金%TiCN薄膜%耐腐蚀性
磁控濺射%鎂閤金%TiCN薄膜%耐腐蝕性
자공천사%미합금%TiCN박막%내부식성
magnetron sputtering%magnesium alloy%TiCN film%corrosion resistance
采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响.结果表明,在Ti靶功率50 W,C靶功率50 W,N2流量20 sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5％(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.664×10-6 A/cm2,比同等条件下纯锾合金基体的腐蚀电流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降了1个数量级.
採用射頻磁控濺射法在AZ31鎂閤金錶麵沉積TiCN薄膜,研究瞭製備工藝參數對TiCN薄膜耐腐蝕性能的影響.結果錶明,在Ti靶功率50 W,C靶功率50 W,N2流量20 sccm,濺射時間4.5h條件下,鍍TiCN薄膜的鎂閤金基體具有最佳的耐蝕性,其在3.5％(質量分數)NaCl溶液中的腐蝕電流密度為1.664×10-6 A/cm2,比同等條件下純鍰閤金基體的腐蝕電流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降瞭1箇數量級.
채용사빈자공천사법재AZ31미합금표면침적TiCN박막,연구료제비공예삼수대TiCN박막내부식성능적영향.결과표명,재Ti파공솔50 W,C파공솔50 W,N2류량20 sccm,천사시간4.5h조건하,도TiCN박막적미합금기체구유최가적내식성,기재3.5％(질량분수)NaCl용액중적부식전류밀도위1.664×10-6 A/cm2,비동등조건하순환합금기체적부식전류밀도(1.785×10-5 A/cm2)하강료1개수량급.
