强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2014年
6期
159-162
,共4页
刘海敬%蒙林%殷勇%王彬
劉海敬%矇林%慇勇%王彬
류해경%몽림%은용%왕빈
W波段%扩展互作用器件%均匀磁场%高电流密度
W波段%擴展互作用器件%均勻磁場%高電流密度
W파단%확전호작용기건%균균자장%고전류밀도
W-band%extended interaction device%uniform magnetic field%high current density
扩展互作用器件,采用三个线圈和一个磁极实现均匀磁场分布.根据理论计算采用有限元法磁学(FEMM)仿真软件对所求磁场进行了建模分析,依据FEMM计算的磁场结合静电电子枪,采用CST仿真软件对高电流密度、高压缩比的电子注在均匀聚焦磁场的作用下传输进行优化.经过计算得出,在工作电压为17 kV、阴极发射电流密度小于10 A/cm2的条件下,由皮尔斯电子枪发射的电子注在均匀磁场的聚焦作用下传输良好,通过率为100％,得到了导流系数为0.175 μP的电子枪,在均匀磁场区形成了高电流密度、高压缩比的电子注,平均电流密度达到343.17 A/cm2,压缩比为32,电子注横纵速度比为7.2％.
擴展互作用器件,採用三箇線圈和一箇磁極實現均勻磁場分佈.根據理論計算採用有限元法磁學(FEMM)倣真軟件對所求磁場進行瞭建模分析,依據FEMM計算的磁場結閤靜電電子鎗,採用CST倣真軟件對高電流密度、高壓縮比的電子註在均勻聚焦磁場的作用下傳輸進行優化.經過計算得齣,在工作電壓為17 kV、陰極髮射電流密度小于10 A/cm2的條件下,由皮爾斯電子鎗髮射的電子註在均勻磁場的聚焦作用下傳輸良好,通過率為100％,得到瞭導流繫數為0.175 μP的電子鎗,在均勻磁場區形成瞭高電流密度、高壓縮比的電子註,平均電流密度達到343.17 A/cm2,壓縮比為32,電子註橫縱速度比為7.2％.
확전호작용기건,채용삼개선권화일개자겁실현균균자장분포.근거이론계산채용유한원법자학(FEMM)방진연건대소구자장진행료건모분석,의거FEMM계산적자장결합정전전자창,채용CST방진연건대고전류밀도、고압축비적전자주재균균취초자장적작용하전수진행우화.경과계산득출,재공작전압위17 kV、음겁발사전류밀도소우10 A/cm2적조건하,유피이사전자창발사적전자주재균균자장적취초작용하전수량호,통과솔위100％,득도료도류계수위0.175 μP적전자창,재균균자장구형성료고전류밀도、고압축비적전자주,평균전류밀도체도343.17 A/cm2,압축비위32,전자주횡종속도비위7.2％.
