硫代硫酸钠浓度对电沉积制备铜锌锡硫硒薄膜性质的影响
류대류산납농도대전침적제비동자석류서박막성질적영향
Effect of Na2S2O3 · 5H2O concentration on the properties of Cu2ZnSn(S, Se)4 thin films fabricated by selenization of co-electroplated Cu-Zn-Sn-S precursors
  • 万方数据
    红外与毫米波学报 홍외여호미파학보
    JOURNAL OF INFRARED AND MILLIMETER WAVES
    2013年 4期 289-293,303 ,共6页

    葛杰%江锦春%胡古今%张小龙%左少华%杨立红%马建华%曹萌%杨平雄

    갈걸%강금춘%호고금%장소룡%좌소화%양립홍%마건화%조맹%양평웅

    共电沉积%硫代硫酸钠浓度%硒化%铜锌锡硫硒薄膜 共電沉積%硫代硫痠鈉濃度%硒化%銅鋅錫硫硒薄膜
    공전침적%류대류산납농도%서화%동자석류서박막
    Cu2ZnSn(S,Se) 4 thin film%Na2S2O3 · 5H2O concentration%co-electroplating%selenization
    采用后硒化Cu-Zn-Sn-S电沉积预制层的方法制备了铜锌锡硫硒薄膜,其中Cu-Zn-Sn-S预制层是通过含有不同浓度的硫代硫酸钠电解液电沉积而成的.实验发现,硒化前后薄膜的性质与硫代硫酸钠浓度密切相关.SEM,EDS,XRD,Raman和透射光谱分析表明,当硫代硫酸钠的浓度为5 mM时,沉积的薄膜形貌平整,晶粒明显,组分贫锌,具有单一的铜锌锡硫硒结构,且其带隙为1.11 eV；在浓度高于5 mM下沉积的薄膜形貌粗糙并产生杂相硒化锡；在浓度低于5 mM下沉积的薄膜组分严重贫锌并生成大量的Cu2 SnSe3.
    채용후서화Cu-Zn-Sn-S전침적예제층적방법제비료동자석류서박막,기중Cu-Zn-Sn-S예제층시통과함유불동농도적류대류산납전해액전침적이성적.실험발현,서화전후박막적성질여류대류산납농도밀절상관.SEM,EDS,XRD,Raman화투사광보분석표명,당류대류산납적농도위5 mM시,침적적박막형모평정,정립명현,조분빈자,구유단일적동자석류서결구,차기대극위1.11 eV；재농도고우5 mM하침적적박막형모조조병산생잡상서화석；재농도저우5 mM하침적적박막조분엄중빈자병생성대량적Cu2 SnSe3.
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