材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2014年
3期
42-44,74
,共4页
彭笑%朱丽慧%Vineet Kumar%刘一雄
彭笑%硃麗慧%Vineet Kumar%劉一雄
팽소%주려혜%Vineet Kumar%류일웅
物理气相沉积%TiAlSiN涂层%微观结构%力学性能%抗氧化性%热稳定性
物理氣相沉積%TiAlSiN塗層%微觀結構%力學性能%抗氧化性%熱穩定性
물리기상침적%TiAlSiN도층%미관결구%역학성능%항양화성%열은정성
physical vapor deposition%TiAlSiN coating%microstructure%mechanical property%oxidation resistance%thermal stability
概述了物理气相沉积(PVD)技术制备TiAlSiN涂层的研究现状及发展趋势,详细分析了Si元素的添加及Si与Al元素的含量对TiAlSiN涂层的微观结构、力学性能、高温抗氧化性和热稳定性的影响.解决PVD制备TiAlSiN涂层较低的膜基结合力和较大的残余应力等问题应是今后重点研究的方向.
概述瞭物理氣相沉積(PVD)技術製備TiAlSiN塗層的研究現狀及髮展趨勢,詳細分析瞭Si元素的添加及Si與Al元素的含量對TiAlSiN塗層的微觀結構、力學性能、高溫抗氧化性和熱穩定性的影響.解決PVD製備TiAlSiN塗層較低的膜基結閤力和較大的殘餘應力等問題應是今後重點研究的方嚮.
개술료물리기상침적(PVD)기술제비TiAlSiN도층적연구현상급발전추세,상세분석료Si원소적첨가급Si여Al원소적함량대TiAlSiN도층적미관결구、역학성능、고온항양화성화열은정성적영향.해결PVD제비TiAlSiN도층교저적막기결합력화교대적잔여응력등문제응시금후중점연구적방향.
