能源工程
能源工程
능원공정
ENERGY ENGINEERING
2013年
5期
29-35
,共7页
余利群%高翔%郑成航%许希%竺新波%刘璐%骆仲泱
餘利群%高翔%鄭成航%許希%竺新波%劉璐%駱仲泱
여리군%고상%정성항%허희%축신파%류로%락중앙
介质阻挡放电%光谱诊断%转动温度%分子温度%NO转化
介質阻擋放電%光譜診斷%轉動溫度%分子溫度%NO轉化
개질조당방전%광보진단%전동온도%분자온도%NO전화
利用光谱诊断方法深入研究了介质阻挡放电(DBD)中气体分子温度分布,OH自由基促进NO分子氧化过程的光谱特性,获得了NO(A2∑+→X2Ⅱ,0-3,1-4)、N2(C3Ⅱu→B3Ⅱg,0-0)和OH(A2Σ+ →X2Ⅱ,0-0)的高分辨率发射光谱.通过拟舍得到NO(A2Σ+→X2Π)转动带253～260nm的谱线,将其与实验谱线进行比较,获得了DBD放电区域的气体分子温度；发现在放电通道内气体分子温度分布较为均衡,但靠近内电极气体分子温度约为330K,略高于介质附近的310K.研究了N2与NO谱线强度的一维分布,发现在放电通道中间位置处谱线强度最高,从中间往内外电极方向谱线强度均逐渐降低.随着交流电压的升高,NO与OH谱线强度均升高,高能电子能有效地激发OH与NO基团.随着相对湿度从20％升高到100％,NO谱线强度降低约93％；随着NO浓度升高,OH谱线强度呈现下降的趋势,NO浓度从200 mL/m3升高到600 mL/ m3时,OH谱线强度下降约27％.说明OH基团对NO氧化过程中起到重要作用.
利用光譜診斷方法深入研究瞭介質阻擋放電(DBD)中氣體分子溫度分佈,OH自由基促進NO分子氧化過程的光譜特性,穫得瞭NO(A2∑+→X2Ⅱ,0-3,1-4)、N2(C3Ⅱu→B3Ⅱg,0-0)和OH(A2Σ+ →X2Ⅱ,0-0)的高分辨率髮射光譜.通過擬捨得到NO(A2Σ+→X2Π)轉動帶253～260nm的譜線,將其與實驗譜線進行比較,穫得瞭DBD放電區域的氣體分子溫度；髮現在放電通道內氣體分子溫度分佈較為均衡,但靠近內電極氣體分子溫度約為330K,略高于介質附近的310K.研究瞭N2與NO譜線彊度的一維分佈,髮現在放電通道中間位置處譜線彊度最高,從中間往內外電極方嚮譜線彊度均逐漸降低.隨著交流電壓的升高,NO與OH譜線彊度均升高,高能電子能有效地激髮OH與NO基糰.隨著相對濕度從20％升高到100％,NO譜線彊度降低約93％；隨著NO濃度升高,OH譜線彊度呈現下降的趨勢,NO濃度從200 mL/m3升高到600 mL/ m3時,OH譜線彊度下降約27％.說明OH基糰對NO氧化過程中起到重要作用.
이용광보진단방법심입연구료개질조당방전(DBD)중기체분자온도분포,OH자유기촉진NO분자양화과정적광보특성,획득료NO(A2∑+→X2Ⅱ,0-3,1-4)、N2(C3Ⅱu→B3Ⅱg,0-0)화OH(A2Σ+ →X2Ⅱ,0-0)적고분변솔발사광보.통과의사득도NO(A2Σ+→X2Π)전동대253～260nm적보선,장기여실험보선진행비교,획득료DBD방전구역적기체분자온도；발현재방전통도내기체분자온도분포교위균형,단고근내전겁기체분자온도약위330K,략고우개질부근적310K.연구료N2여NO보선강도적일유분포,발현재방전통도중간위치처보선강도최고,종중간왕내외전겁방향보선강도균축점강저.수착교류전압적승고,NO여OH보선강도균승고,고능전자능유효지격발OH여NO기단.수착상대습도종20％승고도100％,NO보선강도강저약93％；수착NO농도승고,OH보선강도정현하강적추세,NO농도종200 mL/m3승고도600 mL/ m3시,OH보선강도하강약27％.설명OH기단대NO양화과정중기도중요작용.
