惯性约束聚变靶中硅支撑冷却臂的制备
관성약속취변파중규지탱냉각비적제비
Fabrication of silicon microstructure for ICF target
  • 万方数据
    强激光与粒子束 강격광여입자속
    HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
    2013年 12期 3251-3254 ,共4页

    张继成%罗跃川%马志波%杨苗%周民杰%李佳%吴卫东%唐永建

    장계성%라약천%마지파%양묘%주민걸%리가%오위동%당영건

    惯性约束聚变靶%硅支撑冷却臂%反应离子深刻蚀 慣性約束聚變靶%硅支撐冷卻臂%反應離子深刻蝕
    관성약속취변파%규지탱냉각비%반응리자심각식
    ICF target%silicon supporting cooling arm%deep reactive ion etching
    论述了基于反应离子深刻蚀技术加工惯性约束聚变(ICF)靶的硅支撑冷却臂.利用扫描电子显微镜、白光干涉仪和视觉显微系统等对所制备的硅支撑冷却臂的形貌、侧壁陡直度和卡爪径向形变量等参数进行了表征分析.分析结果表明,硅支撑冷却臂的侧壁陡直度大于88°,卡爪径向形变量大于20 μm,符合靶的设计要求.
    논술료기우반응리자심각식기술가공관성약속취변(ICF)파적규지탱냉각비.이용소묘전자현미경、백광간섭의화시각현미계통등대소제비적규지탱냉각비적형모、측벽두직도화잡조경향형변량등삼수진행료표정분석.분석결과표명,규지탱냉각비적측벽두직도대우88°,잡조경향형변량대우20 μm,부합파적설계요구.
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