物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2013年
11期
2392-2398
,共7页
胡艳%方秋艳%周剑章%詹东平%时康%田中群%田昭武
鬍豔%方鞦豔%週劍章%詹東平%時康%田中群%田昭武
호염%방추염%주검장%첨동평%시강%전중군%전소무
光诱导约束刻蚀%游离·OH%荧光检测%光电协同效应%TiO2纳米管阵列
光誘導約束刻蝕%遊離·OH%熒光檢測%光電協同效應%TiO2納米管陣列
광유도약속각식%유리·OH%형광검측%광전협동효응%TiO2납미관진렬
Photo-induced confined etching%Free·OH%Fluorescence detection%Photo-electro-synergistic effect%TiO2 nanotube array
采用荧光分析,暂态光电流响应分析,电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky响应分析考察了外加电位,光照时间,溶液pH等几个关键因素对光诱导约束刻蚀体系中TiO2纳米管阵列表面游离·OH生成的影响.结果表明:当外加电位为1.0V时,光电协同产生游离·OH效率最高;·OH的光催化生成与消耗能很快达到稳态,形成稳定的约束刻蚀剂层,有利于保持刻蚀过程中的精度;当pH为10时,TiO2纳米管光催化产生游离·OH效率最高.研究结果对于调控和优化光诱导约束刻蚀平坦化铜的溶液体系,提高铜的刻蚀速度或平坦化精度有重要的指导意义.
採用熒光分析,暫態光電流響應分析,電化學交流阻抗譜(EIS)和Mott-Schottky響應分析攷察瞭外加電位,光照時間,溶液pH等幾箇關鍵因素對光誘導約束刻蝕體繫中TiO2納米管陣列錶麵遊離·OH生成的影響.結果錶明:噹外加電位為1.0V時,光電協同產生遊離·OH效率最高;·OH的光催化生成與消耗能很快達到穩態,形成穩定的約束刻蝕劑層,有利于保持刻蝕過程中的精度;噹pH為10時,TiO2納米管光催化產生遊離·OH效率最高.研究結果對于調控和優化光誘導約束刻蝕平坦化銅的溶液體繫,提高銅的刻蝕速度或平坦化精度有重要的指導意義.
채용형광분석,잠태광전류향응분석,전화학교류조항보(EIS)화Mott-Schottky향응분석고찰료외가전위,광조시간,용액pH등궤개관건인소대광유도약속각식체계중TiO2납미관진렬표면유리·OH생성적영향.결과표명:당외가전위위1.0V시,광전협동산생유리·OH효솔최고;·OH적광최화생성여소모능흔쾌체도은태,형성은정적약속각식제층,유리우보지각식과정중적정도;당pH위10시,TiO2납미관광최화산생유리·OH효솔최고.연구결과대우조공화우화광유도약속각식평탄화동적용액체계,제고동적각식속도혹평탄화정도유중요적지도의의.
