电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2013年
12期
27-30
,共4页
鲁浩%伏广好%孙德%贺岩峰
魯浩%伏廣好%孫德%賀巖峰
로호%복엄호%손덕%하암봉
锡%电沉积%芳香羧酸%烷基糖苷%超分子自组装
錫%電沉積%芳香羧痠%烷基糖苷%超分子自組裝
석%전침적%방향최산%완기당감%초분자자조장
tin%electrodeposition%aromatic carboxylic acid%alkyl polyglycoside%supramolecular self-assembly
通过测定循环伏安曲线、锡镀层的表面形貌和X射线衍射谱图,研究了苯甲酸、苯乙酸、苯丙酸、苯丁酸等几种芳香羧酸对锡电沉积的影响.结果表明,芳香羧酸对锡还原的阴极过程有抑制作用.随芳香羧酸碳链长度的增大,该抑制作用增强.烷基糖苷与芳香羧酸之间具有协同作用,烷基糖苷使芳香羧酸对Sn2+向阴极扩散和锡电沉积阴极过程的抑制作用增强.镀液中同时加入烷基糖苷和芳香羧酸时,所得镀层表面平整,结晶细致、均匀.
通過測定循環伏安麯線、錫鍍層的錶麵形貌和X射線衍射譜圖,研究瞭苯甲痠、苯乙痠、苯丙痠、苯丁痠等幾種芳香羧痠對錫電沉積的影響.結果錶明,芳香羧痠對錫還原的陰極過程有抑製作用.隨芳香羧痠碳鏈長度的增大,該抑製作用增彊.烷基糖苷與芳香羧痠之間具有協同作用,烷基糖苷使芳香羧痠對Sn2+嚮陰極擴散和錫電沉積陰極過程的抑製作用增彊.鍍液中同時加入烷基糖苷和芳香羧痠時,所得鍍層錶麵平整,結晶細緻、均勻.
통과측정순배복안곡선、석도층적표면형모화X사선연사보도,연구료분갑산、분을산、분병산、분정산등궤충방향최산대석전침적적영향.결과표명,방향최산대석환원적음겁과정유억제작용.수방향최산탄련장도적증대,해억제작용증강.완기당감여방향최산지간구유협동작용,완기당감사방향최산대Sn2+향음겁확산화석전침적음겁과정적억제작용증강.도액중동시가입완기당감화방향최산시,소득도층표면평정,결정세치、균균.
