CAJ | 학술논문

采用原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了氧化铟锡(ITO)/红荧烯(Rubrene)的形貌和表面、界面的电子态.AFM结果显示,ITO上的Rubrene膜有良好的均匀性.XPS结果表明:C1s谱有3个峰,位于282.50,284.70,289.30 eV,对应于C—Si、C=O和C—C键.用氩离子束溅射表面,芳香碳对应的峰值逐渐增大,其他两个峰值迅速消失.随着表面O污染的去除,O1s峰先快速减弱然后逐渐增强.界面附近的O原子与C原子结合构成O=C、C—O—C和醛基.In3d和Sn3d峰则缓慢增强,在界面附近峰值变得稳定.C1s、In3d、Sn3d谱峰都向低束缚能发生化学位移,表明ITO与Rubrene在界面发生了相互作用,形成一个互扩散层.
채용원자력현미경(AFM)화X사선광전자능보의(XPS)연구료양화인석(ITO)/홍형희(Rubrene)적형모화표면、계면적전자태.AFM결과현시,ITO상적Rubrene막유량호적균균성.XPS결과표명:C1s보유3개봉,위우282.50,284.70,289.30 eV,대응우C—Si、C=O화C—C건.용아리자속천사표면,방향탄대응적봉치축점증대,기타량개봉치신속소실.수착표면O오염적거제,O1s봉선쾌속감약연후축점증강.계면부근적O원자여C원자결합구성O=C、C—O—C화철기.In3d화Sn3d봉칙완만증강,재계면부근봉치변득은정.C1s、In3d、Sn3d보봉도향저속박능발생화학위이,표명ITO여Rubrene재계면발생료상호작용,형성일개호확산층.