CAJ | 학술논문

本文研究了氧气压强对用脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(100)基片上制备的YIG薄膜性能的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、震动样品磁强计(VSM)、铁磁共振仪(FMR)等检测了薄膜微观性能及磁性。研究发现：(1)在0.3Pa和1Pa下制备的YIG薄膜中没有杂相，而在4Pa和16Pa的薄膜中出现了YIP相；(2)薄膜的晶粒尺寸随氧压增大而减小；(3)在1Pa下制备得到的薄膜共振线宽最小，为91Oe；(4)薄膜饱和磁化强度(Ms)随氧压的增加而降低，1Pa下得到的薄膜的Ms为138Oe，最接近理论值。
본문연구료양기압강대용맥충격광침적기술(PLD)재Si(100)기편상제비적YIG박막성능적영향。채용X사선연사의(XRD)、소묘전자현미경(SEM)、진동양품자강계(VSM)、철자공진의(FMR)등검측료박막미관성능급자성。연구발현：(1)재0.3Pa화1Pa하제비적YIG박막중몰유잡상，이재4Pa화16Pa적박막중출현료YIP상；(2)박막적정립척촌수양압증대이감소；(3)재1Pa하제비득도적박막공진선관최소，위91Oe；(4)박막포화자화강도(Ms)수양압적증가이강저，1Pa하득도적박막적Ms위138Oe，최접근이론치。