光电子技术
光電子技術
광전자기술
OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY
2014年
1期
1-4,15
,共5页
高金海%李桢%张武勤%张兵临
高金海%李楨%張武勤%張兵臨
고금해%리정%장무근%장병림
复合碳膜%场致电子发射%微波等离子体化学气相沉积
複閤碳膜%場緻電子髮射%微波等離子體化學氣相沉積
복합탄막%장치전자발사%미파등리자체화학기상침적
the carbon composite films%field emission%chemical vapor deposition
分析研究复合碳膜的制备及场发射效果.在陶瓷衬底上磁控溅射一层金属钛,对金属钛层进行仔细研磨,放入微波等离子体化学气相沉积腔中,在镀钛陶瓷衬底上制备出碳膜.利用扫描电镜、x射线衍射、拉曼光谱分析复合碳膜的微观结构和微观表面形态,表明此碳膜是含有碳纳米管、非晶碳和球状微米金刚石颗粒的复合碳膜.用二极管型结构测试了复合碳膜的场致发射电子的性能.首次发光的电场为0.75 V/μm,稳定发光2.56V/μm的电场下,复合碳膜阴极发射电流密度为7.25 mA/cm2.并对其复合碳膜制备成因及发射机理进行了研究.
分析研究複閤碳膜的製備及場髮射效果.在陶瓷襯底上磁控濺射一層金屬鈦,對金屬鈦層進行仔細研磨,放入微波等離子體化學氣相沉積腔中,在鍍鈦陶瓷襯底上製備齣碳膜.利用掃描電鏡、x射線衍射、拉曼光譜分析複閤碳膜的微觀結構和微觀錶麵形態,錶明此碳膜是含有碳納米管、非晶碳和毬狀微米金剛石顆粒的複閤碳膜.用二極管型結構測試瞭複閤碳膜的場緻髮射電子的性能.首次髮光的電場為0.75 V/μm,穩定髮光2.56V/μm的電場下,複閤碳膜陰極髮射電流密度為7.25 mA/cm2.併對其複閤碳膜製備成因及髮射機理進行瞭研究.
분석연구복합탄막적제비급장발사효과.재도자츤저상자공천사일층금속태,대금속태층진행자세연마,방입미파등리자체화학기상침적강중,재도태도자츤저상제비출탄막.이용소묘전경、x사선연사、랍만광보분석복합탄막적미관결구화미관표면형태,표명차탄막시함유탄납미관、비정탄화구상미미금강석과립적복합탄막.용이겁관형결구측시료복합탄막적장치발사전자적성능.수차발광적전장위0.75 V/μm,은정발광2.56V/μm적전장하,복합탄막음겁발사전류밀도위7.25 mA/cm2.병대기복합탄막제비성인급발사궤리진행료연구.
