电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2014年
8期
15-19
,共5页
立式氧化炉%炉体%快速升降温
立式氧化爐%爐體%快速升降溫
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介绍了一种快速升降温炉体的研制.由于传统的炉体升温响应较慢,升温耗时耗能,与之相比的快速升降温炉体,在升温性能方面,实现了升温响应快、抑制超调效果好.在降温方面,传统炉体只能依靠自然降温,平均降温速率3~4℃/min,增加了晶圆的工艺时间,增大了设备工艺气体、水、电等资源的消耗,而具有快速降温能力的炉体,很好地克服了传统炉体自然降温方面的不利.在新近研制的300 m m立式氧化设备中,实现了30℃/min的升温速率和15℃/min的降温速率,大大缩短了晶圆的工艺时间,保证了晶圆的成膜质量.
介紹瞭一種快速升降溫爐體的研製.由于傳統的爐體升溫響應較慢,升溫耗時耗能,與之相比的快速升降溫爐體,在升溫性能方麵,實現瞭升溫響應快、抑製超調效果好.在降溫方麵,傳統爐體隻能依靠自然降溫,平均降溫速率3~4℃/min,增加瞭晶圓的工藝時間,增大瞭設備工藝氣體、水、電等資源的消耗,而具有快速降溫能力的爐體,很好地剋服瞭傳統爐體自然降溫方麵的不利.在新近研製的300 m m立式氧化設備中,實現瞭30℃/min的升溫速率和15℃/min的降溫速率,大大縮短瞭晶圓的工藝時間,保證瞭晶圓的成膜質量.
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