材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2014年
18期
70-73,98
,共5页
王凡非%冯启明%王维清%黄阳
王凡非%馮啟明%王維清%黃暘
왕범비%풍계명%왕유청%황양
KH550%表面羟基数%FTIR%XPS%表面改性
KH550%錶麵羥基數%FTIR%XPS%錶麵改性
KH550%표면간기수%FTIR%XPS%표면개성
KH550%surface hydroxyl number%FTIR%XPS surface modification
采用γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)对超细石英粉进行表面改性.探索最佳的改性条件,并对改性后的超细石英粉进行傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和Zeta电位的表征,分析计算了改性前后超细石英的粒度分布和表面羟基数变化.结果表明,KH550添加量为1.6%、反应时间为8h、反应温度为120℃时,对超细石英粉改性效果最佳;超细石英粉在改性前后表面羟基数由原来的1.74个/nm2减少到0.42个/nm2,疏水性提高;改性后超细石英Zeta电位绝对值较改性前提高,通过粒度分析,改性后超细石英粉细粒级含量增多,颗粒分散性提高;FTIR和XPS表明KH550在超细石英粉表面附着良好,为化学吸附,改性效果明显.
採用γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)對超細石英粉進行錶麵改性.探索最佳的改性條件,併對改性後的超細石英粉進行傅裏葉變換紅外光譜(FTIR)、X射線光電子能譜(XPS)和Zeta電位的錶徵,分析計算瞭改性前後超細石英的粒度分佈和錶麵羥基數變化.結果錶明,KH550添加量為1.6%、反應時間為8h、反應溫度為120℃時,對超細石英粉改性效果最佳;超細石英粉在改性前後錶麵羥基數由原來的1.74箇/nm2減少到0.42箇/nm2,疏水性提高;改性後超細石英Zeta電位絕對值較改性前提高,通過粒度分析,改性後超細石英粉細粒級含量增多,顆粒分散性提高;FTIR和XPS錶明KH550在超細石英粉錶麵附著良好,為化學吸附,改性效果明顯.
채용γ-안병기삼을양기규완(KH550)대초세석영분진행표면개성.탐색최가적개성조건,병대개성후적초세석영분진행부리협변환홍외광보(FTIR)、X사선광전자능보(XPS)화Zeta전위적표정,분석계산료개성전후초세석영적립도분포화표면간기수변화.결과표명,KH550첨가량위1.6%、반응시간위8h、반응온도위120℃시,대초세석영분개성효과최가;초세석영분재개성전후표면간기수유원래적1.74개/nm2감소도0.42개/nm2,소수성제고;개성후초세석영Zeta전위절대치교개성전제고,통과립도분석,개성후초세석영분세립급함량증다,과립분산성제고;FTIR화XPS표명KH550재초세석영분표면부착량호,위화학흡부,개성효과명현.