中国有色金属学报
中國有色金屬學報
중국유색금속학보
THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS
2014年
3期
739-744
,共6页
王建鹏%李伟%刘平%马凤仓%刘新宽%陈小红%何代华
王建鵬%李偉%劉平%馬鳳倉%劉新寬%陳小紅%何代華
왕건붕%리위%류평%마봉창%류신관%진소홍%하대화
CrN/TiSiN纳米多层膜%Si含量%显微结构%力学性能%外延生长
CrN/TiSiN納米多層膜%Si含量%顯微結構%力學性能%外延生長
CrN/TiSiN납미다층막%Si함량%현미결구%역학성능%외연생장
CrN/TiSiN nanomultilayered film%Si content%microstructure%mechanical properties%epitaxial growth
采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶,用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜.采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响.结果表明:随着Si含量的增加,CrN相的结晶程度先增加后降低,涂层的力学性能先提高后降低,当n(Si)∶n(Ti)=7∶18时获得最高硬度为31.5GPa.HRTEM观测表明,在n(Si)∶n(Ti)=7∶18时,TiSiN层在CrN层的模板作用下呈面心立方结构,并且与CrN层形成共格外延生长结构;当n(Si)∶n(Ti)=11∶14时,TiSiN层总体呈非晶结构,与CrN层的共格外生长结构被破坏.硬度的升高主要与TiSiN与CrN形成共格外延生长结构有关.
採用不同Si含量的TiSi複閤靶和Cr靶,用射頻磁控濺射工藝在Si基底片上沉積不同Si含量的CrN/TiSiN納米多層膜.採用X射線衍射儀(XRD)、高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)和納米壓痕儀研究Si含量對CrN/TiSiN納米多層膜顯微結構和力學性能的影響.結果錶明:隨著Si含量的增加,CrN相的結晶程度先增加後降低,塗層的力學性能先提高後降低,噹n(Si)∶n(Ti)=7∶18時穫得最高硬度為31.5GPa.HRTEM觀測錶明,在n(Si)∶n(Ti)=7∶18時,TiSiN層在CrN層的模闆作用下呈麵心立方結構,併且與CrN層形成共格外延生長結構;噹n(Si)∶n(Ti)=11∶14時,TiSiN層總體呈非晶結構,與CrN層的共格外生長結構被破壞.硬度的升高主要與TiSiN與CrN形成共格外延生長結構有關.
채용불동Si함량적TiSi복합파화Cr파,용사빈자공천사공예재Si기저편상침적불동Si함량적CrN/TiSiN납미다층막.채용X사선연사의(XRD)、고분변투사전자현미경(HRTEM)화납미압흔의연구Si함량대CrN/TiSiN납미다층막현미결구화역학성능적영향.결과표명:수착Si함량적증가,CrN상적결정정도선증가후강저,도층적역학성능선제고후강저,당n(Si)∶n(Ti)=7∶18시획득최고경도위31.5GPa.HRTEM관측표명,재n(Si)∶n(Ti)=7∶18시,TiSiN층재CrN층적모판작용하정면심립방결구,병차여CrN층형성공격외연생장결구;당n(Si)∶n(Ti)=11∶14시,TiSiN층총체정비정결구,여CrN층적공격외생장결구피파배.경도적승고주요여TiSiN여CrN형성공격외연생장결구유관.
