真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2008年
4期
318-324
,共7页
介质阻挡放电化学气相沉积%掺氮TiO2薄膜%光催化性%亲水性
介質阻擋放電化學氣相沉積%摻氮TiO2薄膜%光催化性%親水性
개질조당방전화학기상침적%참담TiO2박막%광최화성%친수성
采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP) 作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜.SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能.且NH3掺氮效果整体好于N2O.
採用介質阻擋放電化學氣相沉積(DBD-CVD)法,以四異丙醇鈦(TTIP) 作為鈦源,氨氣(NH3)和笑氣(N2O)分彆作為氮源的氣相反應先驅體,成功製備瞭不同摻雜量的摻氮二氧化鈦(TiO2)薄膜.SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光譜研究錶明:所製得的摻氮二氧化鈦薄膜均為銳鈦礦相,氮源的引入對TiO2薄膜晶粒成長、晶體取嚮、錶麵形貌影響很大,併促使光吸收限紅移,提高瞭薄膜在可見光照射下的光催化效率,併改善瞭薄膜錶麵的親水性能.且NH3摻氮效果整體好于N2O.
채용개질조당방전화학기상침적(DBD-CVD)법,이사이병순태(TTIP) 작위태원,안기(NH3)화소기(N2O)분별작위담원적기상반응선구체,성공제비료불동참잡량적참담이양화태(TiO2)박막.SEM、XRD、XPS화UV-Vis투사광보연구표명:소제득적참담이양화태박막균위예태광상,담원적인입대TiO2박막정립성장、정체취향、표면형모영향흔대,병촉사광흡수한홍이,제고료박막재가견광조사하적광최화효솔,병개선료박막표면적친수성능.차NH3참담효과정체호우N2O.
