光谱学与光谱分析
光譜學與光譜分析
광보학여광보분석
SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS
2009年
9期
2453-2456
,共4页
常鸿%吴汉华%唐元广%陈根余%董琳
常鴻%吳漢華%唐元廣%陳根餘%董琳
상홍%오한화%당원엄%진근여%동림
钛%微弧氧化%拉曼光谱%相结构
鈦%微弧氧化%拉曼光譜%相結構
태%미호양화%랍만광보%상결구
采用微弧氧化技术,用处理电压为300,350,400,450,500 V在工业纯钛表面制备了5块氧化膜试样,利用扫描电镜和拉曼光谱研究了处理电压对氧化膜结构的影响.结果表明:氧化膜表面布满了微孔,其尺寸随处理电压的升高而增加,而微孔密度则旱相反的变化趋势.氧化膜主要由锐钛矿和金红石相组成,其相含量与处理电压的大小密切相关.当处理电压较低时,氧化膜主要由锐钛矿相组成;随着处理电压的升高,氧化膜中金红石相的相对含量增加;当处理电压在400～450 V时,金红石相含量增加迅速,并成为主晶相.
採用微弧氧化技術,用處理電壓為300,350,400,450,500 V在工業純鈦錶麵製備瞭5塊氧化膜試樣,利用掃描電鏡和拉曼光譜研究瞭處理電壓對氧化膜結構的影響.結果錶明:氧化膜錶麵佈滿瞭微孔,其呎吋隨處理電壓的升高而增加,而微孔密度則旱相反的變化趨勢.氧化膜主要由銳鈦礦和金紅石相組成,其相含量與處理電壓的大小密切相關.噹處理電壓較低時,氧化膜主要由銳鈦礦相組成;隨著處理電壓的升高,氧化膜中金紅石相的相對含量增加;噹處理電壓在400～450 V時,金紅石相含量增加迅速,併成為主晶相.
채용미호양화기술,용처리전압위300,350,400,450,500 V재공업순태표면제비료5괴양화막시양,이용소묘전경화랍만광보연구료처리전압대양화막결구적영향.결과표명:양화막표면포만료미공,기척촌수처리전압적승고이증가,이미공밀도칙한상반적변화추세.양화막주요유예태광화금홍석상조성,기상함량여처리전압적대소밀절상관.당처리전압교저시,양화막주요유예태광상조성;수착처리전압적승고,양화막중금홍석상적상대함량증가;당처리전압재400～450 V시,금홍석상함량증가신속,병성위주정상.
