粉末冶金材料科学与工程
粉末冶金材料科學與工程
분말야금재료과학여공정
POWDER METALLURGY MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2010年
1期
49-53
,共5页
曹华珍%朱施利%董虹星%郑国渠%贺跃辉
曹華珍%硃施利%董虹星%鄭國渠%賀躍輝
조화진%주시리%동홍성%정국거%하약휘
Ti-Al合金%阳极氧化%多孔氧化膜
Ti-Al閤金%暘極氧化%多孔氧化膜
Ti-Al합금%양겁양화%다공양화막
以含CrO3的氢氟酸水溶液为电解液,采用阳极氧化法于粉末冶金Ti-Al合金表面制各多孔氧化膜.采用场发射扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS)对多孔氧化膜的形貌和结构进行分析,研究电解液各组份及浓度、阳极氧化电压对多孔氧化膜的影响规律,并利用电化学测试技术探讨多孔氧化膜的成膜机理.结果表明:合金在不含CrO3的HF电解液中阳极氧化不能获得多孔氧化膜,而是发生严重的腐蚀溶解.电解液中HF浓度和电压均影响氧化膜的形貌,在HF含量为0.2%时可获得规则的多孔氧化膜,孔径在50 nm左右;当氧化电压为10 V时形成的多孔氧化膜规则性较好,电压增大时多孔氧化膜结构遭到破坏.氧化膜中主要含有无定型的TiO2、Al2O3以及少量晶态的Ti2O、单质Al.多孔氧化膜的生长过程包括阻挡层的形成、多孔氧化膜的初始形成和多孔氧化膜的稳定生长3个阶段.
以含CrO3的氫氟痠水溶液為電解液,採用暘極氧化法于粉末冶金Ti-Al閤金錶麵製各多孔氧化膜.採用場髮射掃描電鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)和X射線光電子能譜儀(XPS)對多孔氧化膜的形貌和結構進行分析,研究電解液各組份及濃度、暘極氧化電壓對多孔氧化膜的影響規律,併利用電化學測試技術探討多孔氧化膜的成膜機理.結果錶明:閤金在不含CrO3的HF電解液中暘極氧化不能穫得多孔氧化膜,而是髮生嚴重的腐蝕溶解.電解液中HF濃度和電壓均影響氧化膜的形貌,在HF含量為0.2%時可穫得規則的多孔氧化膜,孔徑在50 nm左右;噹氧化電壓為10 V時形成的多孔氧化膜規則性較好,電壓增大時多孔氧化膜結構遭到破壞.氧化膜中主要含有無定型的TiO2、Al2O3以及少量晶態的Ti2O、單質Al.多孔氧化膜的生長過程包括阻擋層的形成、多孔氧化膜的初始形成和多孔氧化膜的穩定生長3箇階段.
이함CrO3적경불산수용액위전해액,채용양겁양화법우분말야금Ti-Al합금표면제각다공양화막.채용장발사소묘전경(SEM)、X사선연사의(XRD)화X사선광전자능보의(XPS)대다공양화막적형모화결구진행분석,연구전해액각조빈급농도、양겁양화전압대다공양화막적영향규률,병이용전화학측시기술탐토다공양화막적성막궤리.결과표명:합금재불함CrO3적HF전해액중양겁양화불능획득다공양화막,이시발생엄중적부식용해.전해액중HF농도화전압균영향양화막적형모,재HF함량위0.2%시가획득규칙적다공양화막,공경재50 nm좌우;당양화전압위10 V시형성적다공양화막규칙성교호,전압증대시다공양화막결구조도파배.양화막중주요함유무정형적TiO2、Al2O3이급소량정태적Ti2O、단질Al.다공양화막적생장과정포괄조당층적형성、다공양화막적초시형성화다공양화막적은정생장3개계단.
