沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响
침적온도대자공천사생장SrRuO_3박막결구화성능적영향
Effect of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of SrRuO_3 Films Fabricated by Magnetron Sputtering
  • 万方数据
    人工晶体学报 인공정체학보

    2010年 1期 135-138,148 ,共5页

    王宽冒%张沧生%李曼%周阳%王玉强%王侠%彭英才%刘保亭

    왕관모%장창생%리만%주양%왕옥강%왕협%팽영재%류보정

    SrRuO_3%磁控溅射%外延薄膜 SrRuO_3%磁控濺射%外延薄膜
    SrRuO_3%자공천사%외연박막
    SrRuO_3%magnetron sputtering%epitaxial flim
    采用射频磁控溅射法在(001)SrTiO_3基片上制备了SrRuO_3薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等分析方法系统研究了沉积温度对SrRuO_3薄膜结构、表面形貌及输运性质的影响.实验结果表明:当生长温度低于550 ℃时,SrRuO_3薄膜为多晶结构;当温度在550～650 ℃范围内变化时,SrRuO_3薄膜可以在SrTiO_3基片上外延生长,薄膜的最低电阻率约为0.5 mΩ·cm.
    채용사빈자공천사법재(001)SrTiO_3기편상제비료SrRuO_3박막,채용X사선연사(XRD)、원자력현미경(AFM)、사탐침측시의등분석방법계통연구료침적온도대SrRuO_3박막결구、표면형모급수운성질적영향.실험결과표명:당생장온도저우550 ℃시,SrRuO_3박막위다정결구;당온도재550～650 ℃범위내변화시,SrRuO_3박막가이재SrTiO_3기편상외연생장,박막적최저전조솔약위0.5 mΩ·cm.
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