微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2010年
3期
174-178
,共5页
李海亮%马杰%朱效立%吴坚%谢常青%陈宝钦%刘明
李海亮%馬傑%硃效立%吳堅%謝常青%陳寶欽%劉明
리해량%마걸%주효립%오견%사상청%진보흠%류명
镂空透射光栅%电子束光刻%X射线光刻%微电镀%衍射效率
鏤空透射光柵%電子束光刻%X射線光刻%微電鍍%衍射效率
루공투사광책%전자속광각%X사선광각%미전도%연사효솔
针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求,将电子束光刻和X射线光刻技术相结合,制备出3 333 l/mm X射线全镂空透射光栅,栅线宽度接近150 nm,周期300 nm,栅线厚度为500 nm,有效光栅面积达到60%.首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模,然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制品,之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构,最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作.在国家同步辐射实验室光谱辐射和计量实验站上对此光栅在5～23 nm波段进行了衍射效率标定.标定结果表明所制备的光栅栅线平滑,占空比合理,侧壁陡直,不同光栅之间一致性好,完全可以满足应用需求.
針對我國對高線密度X射線鏤空透射光柵在空間環境探測和激光等離子體診斷方麵的需求,將電子束光刻和X射線光刻技術相結閤,製備齣3 333 l/mm X射線全鏤空透射光柵,柵線寬度接近150 nm,週期300 nm,柵線厚度為500 nm,有效光柵麵積達到60%.首先利用電子束光刻和微電鍍技術在鏤空聚酰亞胺薄膜底襯上製備X射線母光柵掩模,然後利用X射線光刻和微電鍍技術實現瞭光柵圖形的複製品,之後採用紫外光刻和微電鍍技術製作加彊觔結構,最後通過腐蝕體硅和等離子體刻蝕聚酰亞胺完成鏤空透射光柵的製作.在國傢同步輻射實驗室光譜輻射和計量實驗站上對此光柵在5～23 nm波段進行瞭衍射效率標定.標定結果錶明所製備的光柵柵線平滑,佔空比閤理,側壁陡直,不同光柵之間一緻性好,完全可以滿足應用需求.
침대아국대고선밀도X사선루공투사광책재공간배경탐측화격광등리자체진단방면적수구,장전자속광각화X사선광각기술상결합,제비출3 333 l/mm X사선전루공투사광책,책선관도접근150 nm,주기300 nm,책선후도위500 nm,유효광책면적체도60%.수선이용전자속광각화미전도기술재루공취선아알박막저츤상제비X사선모광책엄모,연후이용X사선광각화미전도기술실현료광책도형적복제품,지후채용자외광각화미전도기술제작가강근결구,최후통과부식체규화등리자체각식취선아알완성루공투사광책적제작.재국가동보복사실험실광보복사화계량실험참상대차광책재5～23 nm파단진행료연사효솔표정.표정결과표명소제비적광책책선평활,점공비합리,측벽두직,불동광책지간일치성호,완전가이만족응용수구.
