中国科技信息
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중국과기신식
CHINA SCIENCE AND TECHNOLOGY INFORMATION
2012年
19期
44-45
,共2页
薄膜%厚度%溅射时间%基靶距
薄膜%厚度%濺射時間%基靶距
박막%후도%천사시간%기파거
本文采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜厚度的影响,这些工艺参数是溅射类型、溅射时间、基靶距.
本文採用磁控濺射法製備Ti、NdFeB薄膜,併研究分析瞭工藝參數對Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜厚度的影響,這些工藝參數是濺射類型、濺射時間、基靶距.
본문채용자공천사법제비Ti、NdFeB박막,병연구분석료공예삼수대Ti박막급NdFeB자성박막후도적영향,저사공예삼수시천사류형、천사시간、기파거.
