电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2012年
5期
19-23
,共5页
相位光栅%非对称型对准标记%衍射效率%对准信号%对准误差
相位光柵%非對稱型對準標記%衍射效率%對準信號%對準誤差
상위광책%비대칭형대준표기%연사효솔%대준신호%대준오차
phase grating%asymmetric alignment mark%diffractive efficiency%alignment signal%alignment error
在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积型标记的相应特点。
在半導體投影光刻機中,對因工藝處理產生的非對稱型相位光柵對準標記作瞭詳細分析,提齣瞭關于衍射效率、對準信號及對準誤差的計算模型,併著重分析瞭CMP型對準標記和金屬澱積型標記的相應特點。
재반도체투영광각궤중,대인공예처리산생적비대칭형상위광책대준표기작료상세분석,제출료관우연사효솔、대준신호급대준오차적계산모형,병착중분석료CMP형대준표기화금속정적형표기적상응특점。
This paper studies the asymmetric alignment mark of phase grating induced by IC process in the projection lithography and builds a calculation model of the diffractive efficiency, alignment signal and alignment errors of the asymmetric mark, especially analyzes that about CMP mark and metal deposited mark.
