光谱学与光谱分析
光譜學與光譜分析
광보학여광보분석
SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS
2013年
1期
40-43
,共4页
贾莉%彭许文%杨德正%王文春%郑殊
賈莉%彭許文%楊德正%王文春%鄭殊
가리%팽허문%양덕정%왕문춘%정수
氮气均匀放电%电学特性%发射光谱%大气压%潘宁电离
氮氣均勻放電%電學特性%髮射光譜%大氣壓%潘寧電離
담기균균방전%전학특성%발사광보%대기압%반저전리
采用板-板式电极结构在大气压氮气中成功地获得了具有工业应用前景的大面积均匀介质阻挡放电等离子体.利用发射光谱技术测量了N2(C3Ⅱu→B3Πg)和N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4nm)的发射光谱,并研究了应用电压和驱动频率对N2 (C3Πu→B3Πg)和N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)发射光谱强度的影响.结果表明,当应用电压小于6 kV时,N2(C3Πu→ B3 Πg)和N2+ (B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)的发射光谱强度随应用电压增大变化较小,进一步升高应用电压时,等离子体发射光谱强度陡然增强.本文还讨论了激发态N2+ (B2Σ+u)离子在纯N2和He+N2混合气体中介质阻挡大气压均匀介质阻挡放电下的主要产生机制.
採用闆-闆式電極結構在大氣壓氮氣中成功地穫得瞭具有工業應用前景的大麵積均勻介質阻擋放電等離子體.利用髮射光譜技術測量瞭N2(C3Ⅱu→B3Πg)和N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4nm)的髮射光譜,併研究瞭應用電壓和驅動頻率對N2 (C3Πu→B3Πg)和N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)髮射光譜彊度的影響.結果錶明,噹應用電壓小于6 kV時,N2(C3Πu→ B3 Πg)和N2+ (B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)的髮射光譜彊度隨應用電壓增大變化較小,進一步升高應用電壓時,等離子體髮射光譜彊度陡然增彊.本文還討論瞭激髮態N2+ (B2Σ+u)離子在純N2和He+N2混閤氣體中介質阻擋大氣壓均勻介質阻擋放電下的主要產生機製.
채용판-판식전겁결구재대기압담기중성공지획득료구유공업응용전경적대면적균균개질조당방전등리자체.이용발사광보기술측량료N2(C3Ⅱu→B3Πg)화N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4nm)적발사광보,병연구료응용전압화구동빈솔대N2 (C3Πu→B3Πg)화N2+(B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)발사광보강도적영향.결과표명,당응용전압소우6 kV시,N2(C3Πu→ B3 Πg)화N2+ (B2Σ+u→X2Σ+g0-0 391.4 nm)적발사광보강도수응용전압증대변화교소,진일보승고응용전압시,등리자체발사광보강도두연증강.본문환토론료격발태N2+ (B2Σ+u)리자재순N2화He+N2혼합기체중개질조당대기압균균개질조당방전하적주요산생궤제.
