核电子学与探测技术
覈電子學與探測技術
핵전자학여탐측기술
NUCLEAR ELECTRONICS & DETECTION TECHNOLOGY
2009年
5期
1214-1217
,共4页
钟夏华%李玉兰%来永芳%李金
鐘夏華%李玉蘭%來永芳%李金
종하화%리옥란%래영방%리금
GEM%化学刻蚀%漏电流%有效增益%能量分辨率
GEM%化學刻蝕%漏電流%有效增益%能量分辨率
GEM%화학각식%루전류%유효증익%능량분변솔
分析了化学蚀刻制作GEM膜过程中影响蚀刻质量的实验因素,并对相关的蚀刻条件进行了优化,制作出了8张灵敏面积为4×4cm2,孔径为85μm,孔间距为140μm的GEM膜并用其中的3张搭建了探测器.利用55Fe的X射线(5.9keV)测试探测器性能,结果显示,能量分辨率约为26%,有效增益可达105.
分析瞭化學蝕刻製作GEM膜過程中影響蝕刻質量的實驗因素,併對相關的蝕刻條件進行瞭優化,製作齣瞭8張靈敏麵積為4×4cm2,孔徑為85μm,孔間距為140μm的GEM膜併用其中的3張搭建瞭探測器.利用55Fe的X射線(5.9keV)測試探測器性能,結果顯示,能量分辨率約為26%,有效增益可達105.
분석료화학식각제작GEM막과정중영향식각질량적실험인소,병대상관적식각조건진행료우화,제작출료8장령민면적위4×4cm2,공경위85μm,공간거위140μm적GEM막병용기중적3장탑건료탐측기.이용55Fe적X사선(5.9keV)측시탐측기성능,결과현시,능량분변솔약위26%,유효증익가체105.
