化学工程与装备
化學工程與裝備
화학공정여장비
CHEMICAL ENGINEERING & EQUIPMENT
2009年
8期
1-3
,共3页
易聪之%吕海兵%赵松楠%晏良宏%袁晓东
易聰之%呂海兵%趙鬆楠%晏良宏%袁曉東
역총지%려해병%조송남%안량굉%원효동
接触角%亲水性%表面粗糙度%光学元件
接觸角%親水性%錶麵粗糙度%光學元件
접촉각%친수성%표면조조도%광학원건
利用自研的静滴接触角测量仪测量平板类光学元件表面水滴接触角,测量了K9玻璃基片和镀有SiO2薄膜的K9玻璃的接触角,研究了图像采集时间(冻结时间)、滴注水珠体积和光学元件表面粗糙度对测量结果的影响,分析了光学元件在洁净处理过程中表面水滴接触角的变化过程,为光学元件表面洁净处理工艺研究和污染物定量测量提供了理论和技术支撑.
利用自研的靜滴接觸角測量儀測量平闆類光學元件錶麵水滴接觸角,測量瞭K9玻璃基片和鍍有SiO2薄膜的K9玻璃的接觸角,研究瞭圖像採集時間(凍結時間)、滴註水珠體積和光學元件錶麵粗糙度對測量結果的影響,分析瞭光學元件在潔淨處理過程中錶麵水滴接觸角的變化過程,為光學元件錶麵潔淨處理工藝研究和汙染物定量測量提供瞭理論和技術支撐.
이용자연적정적접촉각측량의측량평판류광학원건표면수적접촉각,측량료K9파리기편화도유SiO2박막적K9파리적접촉각,연구료도상채집시간(동결시간)、적주수주체적화광학원건표면조조도대측량결과적영향,분석료광학원건재길정처리과정중표면수적접촉각적변화과정,위광학원건표면길정처리공예연구화오염물정량측량제공료이론화기술지탱.
