带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作
대지탱결구적대고관비경X사선파대편제작
Fabrication of High Aspect-ratio Hard X-Ray Zone Plates with Supporting Structures
  • 万方数据
    光电工程 광전공정
    OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
    2009年 10期 30-34 ,共5页

    马杰%曹磊峰%谢常青%吴璇%李海亮%朱效立%刘明%陈宝钦%叶甜春

    마걸%조뢰봉%사상청%오선%리해량%주효립%류명%진보흠%협첨춘

    大高宽比%X射线波带片%X射线光刻%衍射效率 大高寬比%X射線波帶片%X射線光刻%衍射效率
    대고관비%X사선파대편%X사선광각%연사효솔
    对利用X射线光刻制作大高宽比硬X射线波带片的设计和制作工艺进行了研究.采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬X射线波带片.采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬X射线波带片的高宽比.对所加入支撑点的布置策略进行了优化,使得支撑点所占的面积比例减小.所制作的波带片最外环宽度为200 nm,厚度为2.8μm,具有优良的结构质量,预期可用于10 keV到25 keV波段,并具有优于250 nm的成像分辨率.
    대이용X사선광각제작대고관비경X사선파대편적설계화제작공예진행료연구.채용전자속광각제작X사선광각엄모,병이용X사선광각제작최종적경X사선파대편.채용대광각효결구가입지탱점적방법,대대제고료X사선광각제작경X사선파대편적고관비.대소가입지탱점적포치책략진행료우화,사득지탱점소점적면적비례감소.소제작적파대편최외배관도위200 nm,후도위2.8μm,구유우량적결구질량,예기가용우10 keV도25 keV파단,병구유우우250 nm적성상분변솔.
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