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현대현시
ADVANCED DISPLAY
2009年
11期
45-49
,共5页
场致电子发射%阴极材料%制备方法
場緻電子髮射%陰極材料%製備方法
장치전자발사%음겁재료%제비방법
文章对石墨、金刚石、非晶碳及碳纳米管等常用场发射冷阴极材料的结构、在场发射方面的应用和发展进行了介绍和分析,认为碳纳米管是场发射冷阴极的首选材料.并结合其原理和性能对电弧放电法、脉冲激光熔蒸法、化学气相沉积法、等离子增强化学气相沉积法等场发射阴极制备方法进行了探讨,认为等离子增强化学气相沉积法因可以实现低温原位生长而具有较好的发展趋势.
文章對石墨、金剛石、非晶碳及碳納米管等常用場髮射冷陰極材料的結構、在場髮射方麵的應用和髮展進行瞭介紹和分析,認為碳納米管是場髮射冷陰極的首選材料.併結閤其原理和性能對電弧放電法、脈遲激光鎔蒸法、化學氣相沉積法、等離子增彊化學氣相沉積法等場髮射陰極製備方法進行瞭探討,認為等離子增彊化學氣相沉積法因可以實現低溫原位生長而具有較好的髮展趨勢.
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