稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2009年
11期
2036-2038
,共3页
丁明惠%张丽丽%盖登宇%王颖
丁明惠%張麗麗%蓋登宇%王穎
정명혜%장려려%개등우%왕영
Ta-N/Zr薄膜%扩散阻挡层%Cu互连%射频反应磁控溅射
Ta-N/Zr薄膜%擴散阻擋層%Cu互連%射頻反應磁控濺射
Ta-N/Zr박막%확산조당층%Cu호련%사빈반응자공천사
Ta-N/Zr film%diffusion barrier%Cu metallization%RF magnetron sputtering
在不同的沉积温度下,用射频反应磁控溅射方法在Si(100)衬底和Cu膜间制备Ta-N/Zr阻挡层,研究Zr层的插入对Ta-N扩散阻挡性能的影响.结果表明:不同沉积温度下制备的Ta-N均为非晶态结构;Zr层的插入使Ta-N阻挡层的失效温度至少提高100℃,在800℃仍能有效地阻止Cu的扩散.阻挡性能提高的主要原因是高温退火时形成低接触电阻的Zr-Si层.
在不同的沉積溫度下,用射頻反應磁控濺射方法在Si(100)襯底和Cu膜間製備Ta-N/Zr阻擋層,研究Zr層的插入對Ta-N擴散阻擋性能的影響.結果錶明:不同沉積溫度下製備的Ta-N均為非晶態結構;Zr層的插入使Ta-N阻擋層的失效溫度至少提高100℃,在800℃仍能有效地阻止Cu的擴散.阻擋性能提高的主要原因是高溫退火時形成低接觸電阻的Zr-Si層.
재불동적침적온도하,용사빈반응자공천사방법재Si(100)츤저화Cu막간제비Ta-N/Zr조당층,연구Zr층적삽입대Ta-N확산조당성능적영향.결과표명:불동침적온도하제비적Ta-N균위비정태결구;Zr층적삽입사Ta-N조당층적실효온도지소제고100℃,재800℃잉능유효지조지Cu적확산.조당성능제고적주요원인시고온퇴화시형성저접촉전조적Zr-Si층.
