电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2012年
11期
5-8
,共4页
钛%二氧化铅%中间层%锡锑氧化物%电沉积%形貌%晶型
鈦%二氧化鉛%中間層%錫銻氧化物%電沉積%形貌%晶型
태%이양화연%중간층%석제양화물%전침적%형모%정형
为了改善钛基β-PbO2电极的性能,以含SnCl4和SbCl3的异丙醇-浓盐酸混合液为原料,采用热沉积法制备了SnO2-Sb2O3底层,再采用电沉积方法在由PbO和NaOH组成的电解液中制备了α-PbO2中间层.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)考察了SnO2-Sb2O3底层的形貌与结构,并研究了电沉积时的电流密度、温度和时间对α-PbO2中间层的影响.实验结果表明,SnO2-Sb2O3底层主要由SnO2晶体组成,其表面呈干裂泥土状.在电沉积α-PbO2中间层时,电流密度不宜大于3 mA/cm2,温度宜为40～60℃,时间应控制在1.0h左右.
為瞭改善鈦基β-PbO2電極的性能,以含SnCl4和SbCl3的異丙醇-濃鹽痠混閤液為原料,採用熱沉積法製備瞭SnO2-Sb2O3底層,再採用電沉積方法在由PbO和NaOH組成的電解液中製備瞭α-PbO2中間層.利用掃描電鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)攷察瞭SnO2-Sb2O3底層的形貌與結構,併研究瞭電沉積時的電流密度、溫度和時間對α-PbO2中間層的影響.實驗結果錶明,SnO2-Sb2O3底層主要由SnO2晶體組成,其錶麵呈榦裂泥土狀.在電沉積α-PbO2中間層時,電流密度不宜大于3 mA/cm2,溫度宜為40～60℃,時間應控製在1.0h左右.
위료개선태기β-PbO2전겁적성능,이함SnCl4화SbCl3적이병순-농염산혼합액위원료,채용열침적법제비료SnO2-Sb2O3저층,재채용전침적방법재유PbO화NaOH조성적전해액중제비료α-PbO2중간층.이용소묘전경(SEM)화X사선연사(XRD)고찰료SnO2-Sb2O3저층적형모여결구,병연구료전침적시적전류밀도、온도화시간대α-PbO2중간층적영향.실험결과표명,SnO2-Sb2O3저층주요유SnO2정체조성,기표면정간렬니토상.재전침적α-PbO2중간층시,전류밀도불의대우3 mA/cm2,온도의위40～60℃,시간응공제재1.0h좌우.
