液晶与显示
液晶與顯示
액정여현시
CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS
2012年
5期
613-617
,共5页
王守坤%孙亮%郝昭慧%朱夏明%袁剑峰%林承武
王守坤%孫亮%郝昭慧%硃夏明%袁劍峰%林承武
왕수곤%손량%학소혜%주하명%원검봉%림승무
等离子体增强化学气相沉积法%基撑梢%氮化硅膜%氢化非晶硅膜%傅里叶红外分析
等離子體增彊化學氣相沉積法%基撐梢%氮化硅膜%氫化非晶硅膜%傅裏葉紅外分析
등리자체증강화학기상침적법%기탱소%담화규막%경화비정규막%부리협홍외분석
采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制得氮化硅和氢化非晶硅薄膜,对PECVD设备中基板支撑梢区域的膜质进行了研究.结果显示基板支撑梢对氮化硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)高于非基板支撑梢区域,氢含量及[SiH/NH]值高于非基板支撑梢；对氢化非晶硅薄膜的影响是:基板支撑梢区域的膜厚(沉积速率)小于非基板支撑梢区域,氢含量高于非基板支撑梢.并对成膜影响的机理进行了分析讨论.
採用等離子體增彊化學氣相沉積法(PECVD)製得氮化硅和氫化非晶硅薄膜,對PECVD設備中基闆支撐梢區域的膜質進行瞭研究.結果顯示基闆支撐梢對氮化硅薄膜的影響是:基闆支撐梢區域的膜厚(沉積速率)高于非基闆支撐梢區域,氫含量及[SiH/NH]值高于非基闆支撐梢；對氫化非晶硅薄膜的影響是:基闆支撐梢區域的膜厚(沉積速率)小于非基闆支撐梢區域,氫含量高于非基闆支撐梢.併對成膜影響的機理進行瞭分析討論.
채용등리자체증강화학기상침적법(PECVD)제득담화규화경화비정규박막,대PECVD설비중기판지탱소구역적막질진행료연구.결과현시기판지탱소대담화규박막적영향시:기판지탱소구역적막후(침적속솔)고우비기판지탱소구역,경함량급[SiH/NH]치고우비기판지탱소；대경화비정규박막적영향시:기판지탱소구역적막후(침적속솔)소우비기판지탱소구역,경함량고우비기판지탱소.병대성막영향적궤리진행료분석토론.
