人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2012年
5期
1190-1194
,共5页
杨田林%宋淑梅%辛艳青%李延辉%杜桂强%韩圣浩
楊田林%宋淑梅%辛豔青%李延輝%杜桂彊%韓聖浩
양전림%송숙매%신염청%리연휘%두계강%한골호
磁控溅射%ZnO∶Y薄膜%电阻率%透过率
磁控濺射%ZnO∶Y薄膜%電阻率%透過率
자공천사%ZnO∶Y박막%전조솔%투과솔
室温下采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型ZnO∶Y (ZnO掺杂Y2O3,简称ZnO∶Y)透明导电薄膜.研究了薄膜厚度对ZnO∶Y薄膜结构、光电特性的影响.结果表明:不同厚度的ZnO∶Y薄膜均为多晶薄膜,具有ZnO六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向.随薄膜厚度增加,其电阻率减小,当薄膜厚度增至800 nm时,其电阻率为8.36×10-4 Ω·cm,迁移率为15.3 cm2 ·V-1 ·s-1,载流子浓度为4.88×1020 cm-3.不同厚度的薄膜在可见光范围内平均透过率均为90％以上,当薄膜厚度从200 nm增加到800 nm时,薄膜禁带宽度从3.68 eV减小到3.61 eV.
室溫下採用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上製備齣瞭具有良好附著性、低電阻率和高透過率的新型ZnO∶Y (ZnO摻雜Y2O3,簡稱ZnO∶Y)透明導電薄膜.研究瞭薄膜厚度對ZnO∶Y薄膜結構、光電特性的影響.結果錶明:不同厚度的ZnO∶Y薄膜均為多晶薄膜,具有ZnO六角纖鋅礦結構,最佳取嚮為(002)方嚮.隨薄膜厚度增加,其電阻率減小,噹薄膜厚度增至800 nm時,其電阻率為8.36×10-4 Ω·cm,遷移率為15.3 cm2 ·V-1 ·s-1,載流子濃度為4.88×1020 cm-3.不同厚度的薄膜在可見光範圍內平均透過率均為90％以上,噹薄膜厚度從200 nm增加到800 nm時,薄膜禁帶寬度從3.68 eV減小到3.61 eV.
실온하채용사빈자공천사법재파리츤저상제비출료구유량호부착성、저전조솔화고투과솔적신형ZnO∶Y (ZnO참잡Y2O3,간칭ZnO∶Y)투명도전박막.연구료박막후도대ZnO∶Y박막결구、광전특성적영향.결과표명:불동후도적ZnO∶Y박막균위다정박막,구유ZnO륙각섬자광결구,최가취향위(002)방향.수박막후도증가,기전조솔감소,당박막후도증지800 nm시,기전조솔위8.36×10-4 Ω·cm,천이솔위15.3 cm2 ·V-1 ·s-1,재류자농도위4.88×1020 cm-3.불동후도적박막재가견광범위내평균투과솔균위90％이상,당박막후도종200 nm증가도800 nm시,박막금대관도종3.68 eV감소도3.61 eV.
