清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响
청세대편진분광막손상역치적영향
Influence of substrate cleaning on laser-induced damage threshold of polarizers
  • 万方数据
    强激光与粒子束 강격광여입자속
    HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
    2012年 10期 2338-2342 ,共5页

    叶晓雯%王孝东%程鑫彬%马彬%丁涛%沈正祥%王占山

    협효문%왕효동%정흠빈%마빈%정도%침정상%왕점산

    偏振分光膜%清洗%弱吸收%损伤阈值%电子束蒸发 偏振分光膜%清洗%弱吸收%損傷閾值%電子束蒸髮
    편진분광막%청세%약흡수%손상역치%전자속증발
    采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响.结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜S光的损伤阈值越高；清洗能有效去除基板表面的纳米吸收中心,吸收性杂质分布密度越小,吸收峰越低,P光的损伤阈值越高.
    채용미분간섭현미경、소묘전경화취초리자속관찰료편진분광막손상적형모,종손상궤리출발,연구료청세대편진분광막손상역치적영향.결과표명:청세능유효거제표면잡질,청세질량월호,기판상적잡질척촌월소,잡질밀도야월소,상응적편진분광막S광적손상역치월고；청세능유효거제기판표면적납미흡수중심,흡수성잡질분포밀도월소,흡수봉월저,P광적손상역치월고.
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