微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2012年
6期
889-892,896
,共5页
李岱%严利人%张伟%周卫%刘志弘
李岱%嚴利人%張偉%週衛%劉誌弘
리대%엄리인%장위%주위%류지홍
激光退火%工艺模型%浅结
激光退火%工藝模型%淺結
격광퇴화%공예모형%천결
随着器件尺寸缩小,浅结、超浅结的制作日益成为重要的工艺模块.对于22 nm及以下技术代来说,除了采用低能离子注入获得极浅的原始注入分布外,通常还采用短时或者瞬时激光退火来激活注入杂质,以保持原始的注入杂质不发生明显的扩散再分布.详细介绍了一台激光退火设备的搭建情况,利用所搭建的激光退火装置进行浅结、超浅结的激光退火实验研究.另一方面,鉴于当前激光退火工艺模型的欠缺,在实验数据的基础上,初步分析和建立了专门针对浅结激光退火处理的工艺模型.
隨著器件呎吋縮小,淺結、超淺結的製作日益成為重要的工藝模塊.對于22 nm及以下技術代來說,除瞭採用低能離子註入穫得極淺的原始註入分佈外,通常還採用短時或者瞬時激光退火來激活註入雜質,以保持原始的註入雜質不髮生明顯的擴散再分佈.詳細介紹瞭一檯激光退火設備的搭建情況,利用所搭建的激光退火裝置進行淺結、超淺結的激光退火實驗研究.另一方麵,鑒于噹前激光退火工藝模型的欠缺,在實驗數據的基礎上,初步分析和建立瞭專門針對淺結激光退火處理的工藝模型.
수착기건척촌축소,천결、초천결적제작일익성위중요적공예모괴.대우22 nm급이하기술대래설,제료채용저능리자주입획득겁천적원시주입분포외,통상환채용단시혹자순시격광퇴화래격활주입잡질,이보지원시적주입잡질불발생명현적확산재분포.상세개소료일태격광퇴화설비적탑건정황,이용소탑건적격광퇴화장치진행천결、초천결적격광퇴화실험연구.령일방면,감우당전격광퇴화공예모형적흠결,재실험수거적기출상,초보분석화건립료전문침대천결격광퇴화처리적공예모형.
