化工进展
化工進展
화공진전
CHEMICAL INDUSTRY AND ENGINEERING PROGRESS
2013年
4期
832-836
,共5页
石维%杨邦朝%张选红%方鸣%马建华%李玮%王兴伟
石維%楊邦朝%張選紅%方鳴%馬建華%李瑋%王興偉
석유%양방조%장선홍%방명%마건화%리위%왕흥위
电化学方法%Ta2O5薄膜%钽电解电容器%漏电流
電化學方法%Ta2O5薄膜%鐽電解電容器%漏電流
전화학방법%Ta2O5박막%단전해전용기%루전류
介绍了阳极Ta2O5薄膜的电化学形成机理,并重点分析了电化学形成的Ta2O5薄膜漏电流机理的研究进展.描述了影响电化学Ta2O5薄膜生长的关键因素,包括氧含量、杂质缺陷和薄膜晶化等；分析了Ta2O5薄膜漏电流机理,如空间电荷限制电流(SCLC)、Fowler-Nordheim (F-N)导电机理、Pool-Frenkel (PF)发射、Schottky(S)发射等.最后展望了降低电化学Ta2O5薄膜材料的漏电流的理论及技术发展前景,Ta2O5薄膜后期的热处理、高分子增强塑性和复合薄膜技术等方面的新技术的应用将值得期待.
介紹瞭暘極Ta2O5薄膜的電化學形成機理,併重點分析瞭電化學形成的Ta2O5薄膜漏電流機理的研究進展.描述瞭影響電化學Ta2O5薄膜生長的關鍵因素,包括氧含量、雜質缺陷和薄膜晶化等；分析瞭Ta2O5薄膜漏電流機理,如空間電荷限製電流(SCLC)、Fowler-Nordheim (F-N)導電機理、Pool-Frenkel (PF)髮射、Schottky(S)髮射等.最後展望瞭降低電化學Ta2O5薄膜材料的漏電流的理論及技術髮展前景,Ta2O5薄膜後期的熱處理、高分子增彊塑性和複閤薄膜技術等方麵的新技術的應用將值得期待.
개소료양겁Ta2O5박막적전화학형성궤리,병중점분석료전화학형성적Ta2O5박막루전류궤리적연구진전.묘술료영향전화학Ta2O5박막생장적관건인소,포괄양함량、잡질결함화박막정화등；분석료Ta2O5박막루전류궤리,여공간전하한제전류(SCLC)、Fowler-Nordheim (F-N)도전궤리、Pool-Frenkel (PF)발사、Schottky(S)발사등.최후전망료강저전화학Ta2O5박막재료적루전류적이론급기술발전전경,Ta2O5박막후기적열처리、고분자증강소성화복합박막기술등방면적신기술적응용장치득기대.
