功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2013年
2期
202-205,211
,共5页
刘春海%崔学军%金永中%杨瑞嵩%王素娟%叶松
劉春海%崔學軍%金永中%楊瑞嵩%王素娟%葉鬆
류춘해%최학군%금영중%양서숭%왕소연%협송
扩散阻挡层%超薄%热稳定性%微结构
擴散阻擋層%超薄%熱穩定性%微結構
확산조당층%초박%열은정성%미결구
提出利用真空室残余的低浓度N原子制备超薄α-Ta(N)/TaN双层扩散阻挡层的方法,有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率.用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征,分析结果表明,利用低浓度氮化工艺,能调控超薄金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构.高温退火的实验结果证明,此超薄结构具有高的热稳定性,失效温度达600℃.
提齣利用真空室殘餘的低濃度N原子製備超薄α-Ta(N)/TaN雙層擴散阻擋層的方法,有效地避免瞭異質元素的引入和高N含量導緻的高電阻率.用四點探針(FPP)、X射線衍射(XRD)、場髮射掃描電子顯微鏡(FESEM)進行薄膜電性能和微結構的錶徵,分析結果錶明,利用低濃度氮化工藝,能調控超薄金屬Ta膜的相結構,從而穫得低阻α-Ta(N)/TaN雙層Cu擴散阻擋層結構.高溫退火的實驗結果證明,此超薄結構具有高的熱穩定性,失效溫度達600℃.
제출이용진공실잔여적저농도N원자제비초박α-Ta(N)/TaN쌍층확산조당층적방법,유효지피면료이질원소적인입화고N함량도치적고전조솔.용사점탐침(FPP)、X사선연사(XRD)、장발사소묘전자현미경(FESEM)진행박막전성능화미결구적표정,분석결과표명,이용저농도담화공예,능조공초박금속Ta막적상결구,종이획득저조α-Ta(N)/TaN쌍층Cu확산조당층결구.고온퇴화적실험결과증명,차초박결구구유고적열은정성,실효온도체600℃.
