中国材料进展
中國材料進展
중국재료진전
MATERIALS CHINA
2012年
8期
33-39
,共7页
唐伟忠%于盛旺%范朋伟%李义锋%苏静杰%刘艳青
唐偉忠%于盛旺%範朋偉%李義鋒%囌靜傑%劉豔青
당위충%우성왕%범붕위%리의봉%소정걸%류염청
MPCVD金刚石膜沉积技术%高品质金刚石膜
MPCVD金剛石膜沉積技術%高品質金剛石膜
MPCVD금강석막침적기술%고품질금강석막
high power MPCVD technique%high quality diamond films
金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内,美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内,高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍.首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状,包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后,回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史,并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。
金剛石膜擁有許多優異的性能。在製備金剛石膜的各種方法之中,高功率微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法因其產生的等離子體密度高,同時金剛石膜沉積過程的可控性和潔淨性好,因而一直是製備高品質金剛石膜的首選方法。在世界範圍內,美、英、德、日、法等先進國傢均已掌握瞭以高功率MPCVD法沉積高品質金剛石膜的技術。但在我國國內,高功率MPCVD裝備落後一直是睏擾我國高品質金剛石膜製備技術髮展的主要障礙.首先綜述國際上高功率MPCVD裝備和高品質金剛石膜製備技術的髮展現狀,包括各種高功率MPCVD裝置的特點。其後,迴顧瞭我國金剛石膜MPCVD技術的髮展歷史,併介紹北京科技大學近年來在髮展高功率MPCVD裝備和高品質金剛石膜製備技術方麵取得的新進展。
금강석막옹유허다우이적성능。재제비금강석막적각충방법지중,고공솔미파등리자체화학기상침적(MPCVD)법인기산생적등리자체밀도고,동시금강석막침적과정적가공성화길정성호,인이일직시제비고품질금강석막적수선방법。재세계범위내,미、영、덕、일、법등선진국가균이장악료이고공솔MPCVD법침적고품질금강석막적기술。단재아국국내,고공솔MPCVD장비락후일직시곤우아국고품질금강석막제비기술발전적주요장애.수선종술국제상고공솔MPCVD장비화고품질금강석막제비기술적발전현상,포괄각충고공솔MPCVD장치적특점。기후,회고료아국금강석막MPCVD기술적발전역사,병개소북경과기대학근년래재발전고공솔MPCVD장비화고품질금강석막제비기술방면취득적신진전。
Diamond films possess many remarkable properties. Among the various techniques to deposit diamond films,high power microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) method has the advantages of high density plasma, good controllability and clean environment free from electrode material contamination. Therefore, MPCVD has remains the primary technique useful for depositing high quality diamond films. Western countries have developed abilities to deposit high quality diamond fihns by using high power MPCVD techniques. In contrast, slow development in high power MPCVD apparatus has remained a main obstacle for China to develop its ability to produce high quality diamond films material. In this article, we first review the evolution of high power MPCVD diamond films deposition techniques both abroad and at home. Then, we will present new results of our recent effort to develop high power MPCVD diamond films deposition techniques.