电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2013年
12期
1-5
,共5页
宋振兴%刘宝超%梁山%姚素薇%王宏智%张卫国%赵占芬
宋振興%劉寶超%樑山%姚素薇%王宏智%張衛國%趙佔芬
송진흥%류보초%량산%요소미%왕굉지%장위국%조점분
化学镀%(Ni-P)-Si3N4复合镀层%耐磨性%硬度
化學鍍%(Ni-P)-Si3N4複閤鍍層%耐磨性%硬度
화학도%(Ni-P)-Si3N4복합도층%내마성%경도
electroless deposition%(Ni-P)-Si3N4 composite coating%wear resistance%hardness
利用化学镀方法获得了(Ni-P)-Si3N4复合镀层,并研究了Si3N4颗粒含量、pH及热处理条件对镀层硬度及耐磨性的影响.采用扫描电子显微镜观察,镀层表面平整,Si3N4微粒均匀复合在镀层中.机械性能测试表明,镀层的硬度与耐磨性能随着镀液中次磷酸钠质量浓度的增加呈现出先提高后降低的趋势.当镀液中Si3N4质量浓度为10g/L时,镀层硬度及耐磨性最好,热处理后的镀层硬度高达1088 HV.
利用化學鍍方法穫得瞭(Ni-P)-Si3N4複閤鍍層,併研究瞭Si3N4顆粒含量、pH及熱處理條件對鍍層硬度及耐磨性的影響.採用掃描電子顯微鏡觀察,鍍層錶麵平整,Si3N4微粒均勻複閤在鍍層中.機械性能測試錶明,鍍層的硬度與耐磨性能隨著鍍液中次燐痠鈉質量濃度的增加呈現齣先提高後降低的趨勢.噹鍍液中Si3N4質量濃度為10g/L時,鍍層硬度及耐磨性最好,熱處理後的鍍層硬度高達1088 HV.
이용화학도방법획득료(Ni-P)-Si3N4복합도층,병연구료Si3N4과립함량、pH급열처리조건대도층경도급내마성적영향.채용소묘전자현미경관찰,도층표면평정,Si3N4미립균균복합재도층중.궤계성능측시표명,도층적경도여내마성능수착도액중차린산납질량농도적증가정현출선제고후강저적추세.당도액중Si3N4질량농도위10g/L시,도층경도급내마성최호,열처리후적도층경도고체1088 HV.
