大连理工大学学报
大連理工大學學報
대련리공대학학보
JOURNAL OF DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2013年
5期
671-677
,共7页
贾卫平%贾振元%苗斌%吴蒙华%吴承原
賈衛平%賈振元%苗斌%吳矇華%吳承原
가위평%가진원%묘빈%오몽화%오승원
电沉积%磁场%数值模拟%流场%电场
電沉積%磁場%數值模擬%流場%電場
전침적%자장%수치모의%류장%전장
electrodeposition%magnetic field%numerical simulation%flow field%electric field
对电沉积过程中磁场、电场和流场进行数值分析并利用COMSOL仿真软件进行数值求解,得到了无磁场作用和0.2T垂直磁场作用下流体流场分布、镀液中电场分布以及不同时间段镀层厚度变化特征的数值结果,并对其进行了对比分析.为了解磁场对电沉积过程的影响规律,分别在施加0、0.2、0.4和0.8T磁场作用下电沉积镍,对比实验和数值分析结果表明,镀层厚度仿真值和实验值变化趋势接近,无磁场条件下平均绝对偏差为0.443μm,0.2T磁场条件下平均绝对偏差为0.425 μm.施加0.2T垂直磁场作用后,镀层的平均厚度较无磁场作用下增加了11%,与仿真结果一致,并且随着磁场强度的增加,镀层晶粒细化度、表面质量得到进一步提高.分析结果表明数值分析可以较为精确地反映磁场对电沉积过程的影响作用.
對電沉積過程中磁場、電場和流場進行數值分析併利用COMSOL倣真軟件進行數值求解,得到瞭無磁場作用和0.2T垂直磁場作用下流體流場分佈、鍍液中電場分佈以及不同時間段鍍層厚度變化特徵的數值結果,併對其進行瞭對比分析.為瞭解磁場對電沉積過程的影響規律,分彆在施加0、0.2、0.4和0.8T磁場作用下電沉積鎳,對比實驗和數值分析結果錶明,鍍層厚度倣真值和實驗值變化趨勢接近,無磁場條件下平均絕對偏差為0.443μm,0.2T磁場條件下平均絕對偏差為0.425 μm.施加0.2T垂直磁場作用後,鍍層的平均厚度較無磁場作用下增加瞭11%,與倣真結果一緻,併且隨著磁場彊度的增加,鍍層晶粒細化度、錶麵質量得到進一步提高.分析結果錶明數值分析可以較為精確地反映磁場對電沉積過程的影響作用.
대전침적과정중자장、전장화류장진행수치분석병이용COMSOL방진연건진행수치구해,득도료무자장작용화0.2T수직자장작용하류체류장분포、도액중전장분포이급불동시간단도층후도변화특정적수치결과,병대기진행료대비분석.위료해자장대전침적과정적영향규률,분별재시가0、0.2、0.4화0.8T자장작용하전침적얼,대비실험화수치분석결과표명,도층후도방진치화실험치변화추세접근,무자장조건하평균절대편차위0.443μm,0.2T자장조건하평균절대편차위0.425 μm.시가0.2T수직자장작용후,도층적평균후도교무자장작용하증가료11%,여방진결과일치,병차수착자장강도적증가,도층정립세화도、표면질량득도진일보제고.분석결과표명수치분석가이교위정학지반영자장대전침적과정적영향작용.