功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2014年
7期
7057-7060,7065
,共5页
卞萍%孔春阳%李万俊%秦国平%张萍%徐庆
卞萍%孔春暘%李萬俊%秦國平%張萍%徐慶
변평%공춘양%리만준%진국평%장평%서경
C掺杂ZnO%电学特性%XPS%Raman
C摻雜ZnO%電學特性%XPS%Raman
C참잡ZnO%전학특성%XPS%Raman
C doped ZnO%electrical properties%XPS%Raman
采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上成功制备了不同 C 掺杂浓度的 ZnO∶C 薄膜,借助于 X射线衍射仪(XRD)、霍尔测试(Hall)、X 射线光电子谱(XPS)和拉曼散射光谱(Raman)等测试手段系统研究了 ZnO 薄膜的结构、电学以及拉曼特性并分析了 C 在ZnO 薄膜中存在形式。结果表明,所有薄膜都呈纤锌矿结构并具有高度的 c 轴择优取向。随着 C 掺杂浓度的增加,薄膜的 n 型导电性能不断增强,其主要原因是ZnO 薄膜中的 C 替代 Zn 位起施主作用。
採用射頻磁控濺射法在石英玻璃襯底上成功製備瞭不同 C 摻雜濃度的 ZnO∶C 薄膜,藉助于 X射線衍射儀(XRD)、霍爾測試(Hall)、X 射線光電子譜(XPS)和拉曼散射光譜(Raman)等測試手段繫統研究瞭 ZnO 薄膜的結構、電學以及拉曼特性併分析瞭 C 在ZnO 薄膜中存在形式。結果錶明,所有薄膜都呈纖鋅礦結構併具有高度的 c 軸擇優取嚮。隨著 C 摻雜濃度的增加,薄膜的 n 型導電性能不斷增彊,其主要原因是ZnO 薄膜中的 C 替代 Zn 位起施主作用。
채용사빈자공천사법재석영파리츤저상성공제비료불동 C 참잡농도적 ZnO∶C 박막,차조우 X사선연사의(XRD)、곽이측시(Hall)、X 사선광전자보(XPS)화랍만산사광보(Raman)등측시수단계통연구료 ZnO 박막적결구、전학이급랍만특성병분석료 C 재ZnO 박막중존재형식。결과표명,소유박막도정섬자광결구병구유고도적 c 축택우취향。수착 C 참잡농도적증가,박막적 n 형도전성능불단증강,기주요원인시ZnO 박막중적 C 체대 Zn 위기시주작용。
Different concentration of ZnO∶C thin films were deposited on quartz glass substrates by a radio-fre-quency (RF)magnetron sputtering technique.The structure,Raman and electrical properties of ZnO∶C film were investigated by X-ray diffractometer,Raman scattering spectrum and Hall measurement system.Then, we explore the role of C in the ZnO∶C film.The results indicate that all films perform the ZnO wurtzite struc-ture with preferred c -axis orientation.The n-type conductivity enhances with the increase of C dopant,and the main explanation to be that C substitute for zinc site and act as donor.