中山大学学报（自然科学版）
中山大學學報（自然科學版）
중산대학학보（자연과학판）
ACTA SCIENTIARUM NATURALIUM UNIVERSITATIS SUNYATSENI
2014年
3期
14-18
,共5页
曾湘安%艾斌%邓幼俊%沈辉
曾湘安%艾斌%鄧幼俊%瀋輝
증상안%애빈%산유준%침휘
表面钝化%稳定性%少子寿命%硅片
錶麵鈍化%穩定性%少子壽命%硅片
표면둔화%은정성%소자수명%규편
surface passivation%stability%minority carrier lifetime%silicon
研究分析了热氧化钝化,用PECVD双面沉积SiNx∶H膜钝化以及碘酒钝化三种表面钝化工艺的稳定性,通过WT-2000少子寿命测试仪对采用这三种钝化工艺的单晶硅片,多晶硅片以及物理提纯硅片在暗条件不同储存时间的少子寿命进行测量,分析得到三种表面钝化工艺的效果以及稳定性.研究结果表明:碘酒钝化效果好,用PECVD双面沉积SiNx:H膜钝化和热氧化钝化稳定性好.
研究分析瞭熱氧化鈍化,用PECVD雙麵沉積SiNx∶H膜鈍化以及碘酒鈍化三種錶麵鈍化工藝的穩定性,通過WT-2000少子壽命測試儀對採用這三種鈍化工藝的單晶硅片,多晶硅片以及物理提純硅片在暗條件不同儲存時間的少子壽命進行測量,分析得到三種錶麵鈍化工藝的效果以及穩定性.研究結果錶明:碘酒鈍化效果好,用PECVD雙麵沉積SiNx:H膜鈍化和熱氧化鈍化穩定性好.
연구분석료열양화둔화,용PECVD쌍면침적SiNx∶H막둔화이급전주둔화삼충표면둔화공예적은정성,통과WT-2000소자수명측시의대채용저삼충둔화공예적단정규편,다정규편이급물리제순규편재암조건불동저존시간적소자수명진행측량,분석득도삼충표면둔화공예적효과이급은정성.연구결과표명:전주둔화효과호,용PECVD쌍면침적SiNx:H막둔화화열양화둔화은정성호.
