中国科技论文
中國科技論文
중국과기논문
Sciencepaper Online
2013年
2期
132-135
,共4页
张彦坡%刘波%任丁%林黎蔚%杨斌%徐可为
張彥坡%劉波%任丁%林黎蔚%楊斌%徐可為
장언파%류파%임정%림려위%양빈%서가위
薄膜%扩散阻挡层%微结构%热稳定性%非晶态
薄膜%擴散阻擋層%微結構%熱穩定性%非晶態
박막%확산조당층%미결구%열은정성%비정태
采用射频磁控溅射技术在Si(111)基体和Cu之间沉积ZrGeN阻挡层,重点研究了Cu/ ZrGeN/Si多层膜系中N2分压对ZrGeN微结构及阻挡层性能的影响.采用四探针电阻仪、X射线光电子能谱、X射线衍射仪、俄歇电子能谱表征ZrGeN薄膜和Cu/ZrGeN/Si多层膜体系的电阻率、成分、微结构和热稳定性能.ZrGeN薄膜结构在沉积过程中对N2与Ar气体流量比非常敏感,随N2/(Ar+N2)流量比的增加,依次形成多晶、类非晶ZrGeN膜层；较高N2含量的ZrGeN系统在800℃退火后仍能保持其菲晶结构,Cu在其中的扩散速度慢,可以作为扩散阻挡层使用.
採用射頻磁控濺射技術在Si(111)基體和Cu之間沉積ZrGeN阻擋層,重點研究瞭Cu/ ZrGeN/Si多層膜繫中N2分壓對ZrGeN微結構及阻擋層性能的影響.採用四探針電阻儀、X射線光電子能譜、X射線衍射儀、俄歇電子能譜錶徵ZrGeN薄膜和Cu/ZrGeN/Si多層膜體繫的電阻率、成分、微結構和熱穩定性能.ZrGeN薄膜結構在沉積過程中對N2與Ar氣體流量比非常敏感,隨N2/(Ar+N2)流量比的增加,依次形成多晶、類非晶ZrGeN膜層；較高N2含量的ZrGeN繫統在800℃退火後仍能保持其菲晶結構,Cu在其中的擴散速度慢,可以作為擴散阻擋層使用.
채용사빈자공천사기술재Si(111)기체화Cu지간침적ZrGeN조당층,중점연구료Cu/ ZrGeN/Si다층막계중N2분압대ZrGeN미결구급조당층성능적영향.채용사탐침전조의、X사선광전자능보、X사선연사의、아헐전자능보표정ZrGeN박막화Cu/ZrGeN/Si다층막체계적전조솔、성분、미결구화열은정성능.ZrGeN박막결구재침적과정중대N2여Ar기체류량비비상민감,수N2/(Ar+N2)류량비적증가,의차형성다정、류비정ZrGeN막층；교고N2함량적ZrGeN계통재800℃퇴화후잉능보지기비정결구,Cu재기중적확산속도만,가이작위확산조당층사용.
