电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2013年
9期
5-7,13
,共4页
吕菲%耿博耘%于妍%杨洪星%刘锋
呂菲%耿博耘%于妍%楊洪星%劉鋒
려비%경박운%우연%양홍성%류봉
重掺硼硅单晶%腐蚀速率%表面均匀性
重摻硼硅單晶%腐蝕速率%錶麵均勻性
중참붕규단정%부식속솔%표면균균성
直拉重掺硅硼单晶作为重要的外延衬底材料,具有其优越的特性.由于其硬度大,杂质含量高,在抛光片的加工过程中表现出腐蚀速率慢、表面均匀性差等特点,不利于硅片腐蚀减薄和抛光清洗等.研究了直拉重掺硅硼单晶的碱性腐蚀速率随腐蚀液温度和浓度变化趋势,从直拉重掺硅硼单晶化学反应的微观角度解释了这种变化规律,在此基础上,研究了不同的添加剂对腐蚀速率和表面均匀性的影响,从理论和实验两方面证实了,在腐蚀液中加入碱性氧化剂有利于腐蚀速率的提高,并能有效改善硅片的表面均匀性.
直拉重摻硅硼單晶作為重要的外延襯底材料,具有其優越的特性.由于其硬度大,雜質含量高,在拋光片的加工過程中錶現齣腐蝕速率慢、錶麵均勻性差等特點,不利于硅片腐蝕減薄和拋光清洗等.研究瞭直拉重摻硅硼單晶的堿性腐蝕速率隨腐蝕液溫度和濃度變化趨勢,從直拉重摻硅硼單晶化學反應的微觀角度解釋瞭這種變化規律,在此基礎上,研究瞭不同的添加劑對腐蝕速率和錶麵均勻性的影響,從理論和實驗兩方麵證實瞭,在腐蝕液中加入堿性氧化劑有利于腐蝕速率的提高,併能有效改善硅片的錶麵均勻性.
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