材料工程
材料工程
재료공정
JOURNAL OF MATERIALS ENGINEERING
2013年
7期
35-39
,共5页
NbSiN%磁控溅射%微结构%力学性能%摩擦磨损性能
NbSiN%磁控濺射%微結構%力學性能%摩抆磨損性能
NbSiN%자공천사%미결구%역학성능%마찰마손성능
NbSiN%magnetron sputtering%microstructure%mechanical property%tribological property
用磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的NbSiN复合薄膜.采用色散能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪表征复合膜的成分、微结构、力学性能以及室温和高温摩擦磨损性能.实验结果表明:NbSiN复合膜中只存在面心立方NbN结构,且呈(200)择优取向；Si的加入使复合膜硬度得到提高,Si含量为20.29％(原子分数)时硬度达到最大值32.1GPa,随着Si含量的进一步增加,复合膜的硬度逐步降低.室温和高温摩擦磨损实验结果表明,在室温时,NbSiN复合膜的平均摩擦因数在0.60～0.68之间,波动不大；而在650℃时,随着Si含量的增加,复合膜的平均摩擦因数从0.57降至0.42;650℃时的平均摩擦因数低于室温下的平均摩擦因数与氧化物的生成有关.
用磁控濺射方法製備瞭一繫列不同Si含量的NbSiN複閤薄膜.採用色散能譜儀、X射線衍射儀、納米壓痕儀、高溫摩抆磨損儀錶徵複閤膜的成分、微結構、力學性能以及室溫和高溫摩抆磨損性能.實驗結果錶明:NbSiN複閤膜中隻存在麵心立方NbN結構,且呈(200)擇優取嚮；Si的加入使複閤膜硬度得到提高,Si含量為20.29％(原子分數)時硬度達到最大值32.1GPa,隨著Si含量的進一步增加,複閤膜的硬度逐步降低.室溫和高溫摩抆磨損實驗結果錶明,在室溫時,NbSiN複閤膜的平均摩抆因數在0.60～0.68之間,波動不大；而在650℃時,隨著Si含量的增加,複閤膜的平均摩抆因數從0.57降至0.42;650℃時的平均摩抆因數低于室溫下的平均摩抆因數與氧化物的生成有關.
용자공천사방법제비료일계렬불동Si함량적NbSiN복합박막.채용색산능보의、X사선연사의、납미압흔의、고온마찰마손의표정복합막적성분、미결구、역학성능이급실온화고온마찰마손성능.실험결과표명:NbSiN복합막중지존재면심립방NbN결구,차정(200)택우취향；Si적가입사복합막경도득도제고,Si함량위20.29％(원자분수)시경도체도최대치32.1GPa,수착Si함량적진일보증가,복합막적경도축보강저.실온화고온마찰마손실험결과표명,재실온시,NbSiN복합막적평균마찰인수재0.60～0.68지간,파동불대；이재650℃시,수착Si함량적증가,복합막적평균마찰인수종0.57강지0.42;650℃시적평균마찰인수저우실온하적평균마찰인수여양화물적생성유관.
