强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2013年
11期
2826-2830
,共5页
李静平%方明%贺洪波%邵建达%李朝阳
李靜平%方明%賀洪波%邵建達%李朝暘
리정평%방명%하홍파%소건체%리조양
应力释放%应力恢复%物理吸附%化学吸附
應力釋放%應力恢複%物理吸附%化學吸附
응력석방%응력회복%물리흡부%화학흡부
stress relaxation%stress recovery%physical adsorption%chemical adsorption
采用多光束应力实时测量装置监控并分析了磁控溅射Si和SiNx薄膜的总力及应力演化过程.在两种膜层中均观察到了应力释放及恢复现象.Si膜中应力是可逆的,而SiNx膜中应力是部分可逆的.物理吸附和解吸附分别是应力释放和恢复的主要原因.不可逆的应力分量来源于化学吸附,基于吸附机制建立了一个应力释放模型.
採用多光束應力實時測量裝置鑑控併分析瞭磁控濺射Si和SiNx薄膜的總力及應力縯化過程.在兩種膜層中均觀察到瞭應力釋放及恢複現象.Si膜中應力是可逆的,而SiNx膜中應力是部分可逆的.物理吸附和解吸附分彆是應力釋放和恢複的主要原因.不可逆的應力分量來源于化學吸附,基于吸附機製建立瞭一箇應力釋放模型.
채용다광속응력실시측량장치감공병분석료자공천사Si화SiNx박막적총력급응력연화과정.재량충막층중균관찰도료응력석방급회복현상.Si막중응력시가역적,이SiNx막중응력시부분가역적.물리흡부화해흡부분별시응력석방화회복적주요원인.불가역적응력분량래원우화학흡부,기우흡부궤제건립료일개응력석방모형.
