强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2014年
3期
104-107
,共4页
邵勇%孙来喜%吴卫东%孙卫国
邵勇%孫來喜%吳衛東%孫衛國
소용%손래희%오위동%손위국
反应离子刻蚀%感应耦合等离子体%刻蚀速率%粗糙度%刻蚀形貌
反應離子刻蝕%感應耦閤等離子體%刻蝕速率%粗糙度%刻蝕形貌
반응리자각식%감응우합등리자체%각식속솔%조조도%각식형모
reactive ion etching%inductively coupled plasma%etching rate%roughness%etch morphology
采用感应耦合等离子体刻蚀技术,以CF4/Ar/O2为反应气体对熔石英元件表面进行修饰,研究并分析了CF4和Ar流量对刻蚀速率、熔石英表面粗糙度和微观形貌的影响.结果表明,CF4化学刻蚀与Ar的物理轰击对熔石英样品表面修饰效果存在一定竞争关系,当它们达到平衡时表面粗糙度最小.通过对不同流量气体刻蚀过后熔石英表面粗糙度和光学显微形貌分析获得了较为理想的气流量配比,该研究为反应等离子体修饰熔石英光学元件以获得较高光学性能提供工艺参考.
採用感應耦閤等離子體刻蝕技術,以CF4/Ar/O2為反應氣體對鎔石英元件錶麵進行脩飾,研究併分析瞭CF4和Ar流量對刻蝕速率、鎔石英錶麵粗糙度和微觀形貌的影響.結果錶明,CF4化學刻蝕與Ar的物理轟擊對鎔石英樣品錶麵脩飾效果存在一定競爭關繫,噹它們達到平衡時錶麵粗糙度最小.通過對不同流量氣體刻蝕過後鎔石英錶麵粗糙度和光學顯微形貌分析穫得瞭較為理想的氣流量配比,該研究為反應等離子體脩飾鎔石英光學元件以穫得較高光學性能提供工藝參攷.
채용감응우합등리자체각식기술,이CF4/Ar/O2위반응기체대용석영원건표면진행수식,연구병분석료CF4화Ar류량대각식속솔、용석영표면조조도화미관형모적영향.결과표명,CF4화학각식여Ar적물리굉격대용석영양품표면수식효과존재일정경쟁관계,당타문체도평형시표면조조도최소.통과대불동류량기체각식과후용석영표면조조도화광학현미형모분석획득료교위이상적기류량배비,해연구위반응등리자체수식용석영광학원건이획득교고광학성능제공공예삼고.
